Microscópio atômico de varredura plano da força
- O projeto da cabeça de exploração do pórtico, a base de mármore, a fase da adsorção do vácuo, o tamanho da amostra e o peso são basicamente ilimitados
- Varredor independente do deslocamento da pressão da três-linha central de A62.4510 + de circuito fechado, que pode fazer a varredura com elevada precisão em uma vasta gama
- Método de alimentação da agulha inteligente com detecção automática de cerâmica piezoelétrica motor-controlada para proteger pontas de prova e amostras
- Posicionamento ótico automático, nenhuma necessidade para ajustar o foco, observação do tempo real e posicionamento da área de varredura da amostra da ponta de prova
- Equipado com o protetor fechado do metal, tabela deabsorção pneumática, capacidade antiparasitária forte
◆O primeiro microscópio atômico comercial da força em China para realizar a exploração móvel combinada da ponta de prova e da amostra;
◆O primeiro em China para usar uma tabela de exploração piezoelétrica do deslocamento do circuito fechado independente da três-linha central para conseguir a exploração em grande escala da elevada precisão;
◆a exploração independente da Três-linha central, XYZ não se afeta, muito apropriado para a detecção tridimensional do material e da topografia;
◆Controle elétrico de tabela movente da amostra e de tabela de levantamento, que pode ser programado com posição do multi-ponto realizar a detecção automática rápida;
◆Projeto da cabeça de exploração do pórtico, base de mármore, adsorção do vácuo e fase magnética da adsorção;
◆O motor controlo automàtica o método de alimentação da agulha inteligente da detecção automática cerâmica piezoelétrica para proteger a ponta de prova e a amostra;
◆Posicionamento do microscópio da ampliação alta, observação do tempo real e posicionamento óticos auxiliares da ponta de prova e da área de varredura da amostra;
◆A fase de varredura piezoelétrica do circuito fechado não exige a correção não-linear, e a precisão da caracterização e da medida do nanômetro é melhor de 99,5%.


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A62.4510 |
A62.4511 |
Modo do trabalho |
Modo de contato Modo de batida
[Opcional] Modo da fricção Modo da fase Modo magnético Modo eletrostático |
Modo de contato Modo de batida
[Opcional] Modo da fricção Modo da fase Modo magnético Modo eletrostático |
Curva atual do espectro |
Curva de RMS-Z F-Z Force Curve |
Curva de RMS-Z F-Z Force Curve |
Modo de varredura XY |
Exploração conduzida ponta de prova, Varredor Piezo do tubo |
Exploração conduzida amostra, fase piezoelétrica da exploração do deslocamento do laço fechado |
Escala XY da varredura |
70×70um |
Laço fechado 100×100um |
Definição XY da varredura |
0.2nm |
Laço fechado 0.5nm |
Modo de varredura de Z |
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Exploração conduzida ponta de prova |
Escala da varredura de Z |
5um |
5um |
Definição da varredura de Z |
0.05nm |
0.05nm |
Velocidade da varredura |
0.6Hz~30Hz |
0.6Hz~30Hz |
Ângulo da varredura |
0~360° |
0~360° |
Peso da amostra |
≤15Kg |
≤0.5Kg |
Tamanho da fase |
Dia.100mm
[Opcional] Dia.200mm Dia.300mm |
Dia.100mm
[Opcional] Dia.200mm Dia.300mm |
Mover-se XY da fase |
100x100mm, definição 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
100x100mm, definição 1um
[Opcional] 200x200mm 300x300mm |
Mover-se da fase Z |
15mm, definição 10nm [Opcional] 20mm 25mm |
15mm, definição 10nm [Opcional] 20mm 25mm |
Projeto deabsorção |
Suspensão da mola
[Opcional] Amortecedor ativo |
Suspensão da mola
[Opcional] Amortecedor ativo |
Sistema ótico |
5x objetivo 5.0M Digital Camera
[Opcional] 10x objetivo 20x objetivo |
5x objetivo 5.0M Digital Camera
[Opcional] 10x objetivo 20x objetivo |
Saída |
USB2.0/3.0 |
USB2.0/3.0 |
Software |
Vitória XP/7/8/10 |
Vitória XP/7/8/10 |
Corpo principal |
Cabeça de varredura do pórtico, base de mármore |
Cabeça de varredura do pórtico, base de mármore |
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Microscópio |
Microscópio ótico |
Microscópio de elétron |
Microscópio de varredura da ponta de prova |
Max Resolution (um) |
0,18 |
0,00011 |
0,00008 |
Observação |
Imersão 1500x do óleo |
Átomos de carbono do diamante da imagem latente |
Átomos de carbono graphitic da alto-ordem da imagem latente |
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Interação da Ponta de prova-amostra |
Medida do sinal |
Informação |
Força |
Força eletrostática |
Forma |
Corrente do túnel |
Atual |
Forma, condutibilidade |
Força magnética |
Fase |
Estrutura magnética |
Força eletrostática |
Fase |
distribuição de carga |
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Definição |
Condição de trabalho |
Temperation de trabalho |
Damge a provar |
Profundidade da inspeção |
SPM |
Atom Level 0.1nm |
Normal, líquido, vácuo |
Sala ou baixo Temperation |
Nenhum |
1~2 Atom Level |
TEM |
Ponto 0.3~0.5nm Estrutura 0.1~0.2nm |
Vácuo alto |
Sala Temperation |
Pequeno |
Geralmente <100nm>
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SEM |
6-10nm |
Vácuo alto |
Sala Temperation |
Pequeno |
10mm @10x 1um @10000x |
FIM |
Atom Level 0.1nm |
Vácuo alto super |
30~80K |
Damge |
Atom Thickness |

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