Processo da atomização do plasma da radiofrequência para o pó de metal 10 - 1000kg/grupo

Equipamento de Balling do pó do plasma da radiofrequência

Vista geral

A tocha de plasma da radiofrequência possui a densidade de alta energia, força forte do aquecimento, e seu arco de plasma é enorme. Devido a nenhuns elétrodos disponíveis, não pode gerar a contaminação aos produtos causados pela evaporação do elétrodo.

O princípio de tecnologia de balling do pó do plasma da radiofrequência refere esse gás inerte (como o argônio) é ionizado sob o efeito da fonte de alimentação de alta frequência e formado como o plasma de alta temperatura estável do gás inerte; e o pó cru irregular é pulverizado pelo gás de portador (nitrogênio) no plasma através do dispositivo de alimentação do pó, e estas partículas do pó absorvem a grande quantidade de calor no plasma de alta temperatura e suas superfícies são derretidas rapidamente; estes pó derretido são enviados então no dispositivo da reação refrigerar extremamente de alta velocidade, e rápido sob o ambiente do gás inerte. Consequentemente, são refrigerados para baixo e solidificados no pó esférico pela tensão de superfície; além disso, são enviados no material que recolhe a sala.

Características

• Alta temperatura do aquecimento, velocidade refrigerando rápida, nenhuma contaminação do elétrodo;
• Os materiais da reação são dispersados dinamicamente na tocha de plasma, desta maneira pode evitar a acumulação e o crescimento dos pós, e é aplicada ao derretimento e ao balling de partículas do pó;
• Apropriado para produzir o tungstênio, o molibdênio, o si, o W, o WC, óxido de alumínio, óxido de silicone, óxido de zircônio e o outro metal e pó refratários do óxido
• A forma regular, spheroidization alto, alisa o flowability de superfície e bom; e a densidade do pó e densidade de maioria aumentada

Tecnologia da estrutura de módulo do núcleo

O pó de balling da tocha de plasma da radiofrequência que produz o equipamento é construído com seguimento de sete componentes e de componentes periféricos:

• Tocha de plasma da radiofrequência;
• Fonte de alimentação do plasma da radiofrequência;
• Fornecimento do gás e sistema de alimentação do pó;
• Sala da reação, sala da coleção e apoio;
• Sistema de bombeamento do vácuo;
• Sistema de controlo bonde e de medição;
• Unidade da água refrigerando.