Pó alto de Spheroidization do produto alto do processo da atomização do plasma da radiofrequência de Spheroidization

O plasma da radiofrequência pulveriza o equipamento de Balling

Vista geral

A tocha de plasma da radiofrequência possui a densidade de alta energia, força de aquecimento forte, e seu arco de plasma é enorme. Devido não aos elétrodos disponíveis, não pode gerar a contaminação aos produtos causados pela evaporação do elétrodo.

O princípio de tecnologia de balling do pó do plasma da radiofrequência refere esse gás inerte (como o argônio) é ionizado sob o efeito da fonte de alimentação de alta frequência e formado como o plasma de alta temperatura estável do gás inerte; e o pó cru irregular é pulverizado pelo gás de portador (nitrogênio) no plasma através do dispositivo de alimentação do pó, e estas partículas do pó absorvem a grande quantidade de calor no plasma de alta temperatura e suas superfícies são derretidas rapidamente; este o pó derretido é enviado então no dispositivo da reação refrigerar extremamente de alta velocidade, e rápido sob o ambiente do gás inerte. Consequentemente, são refrigerados para baixo e solidificados no pó esférico pela tensão de superfície; além disso, são enviados na sala de recolhimento material.

Características

• Alta temperatura do aquecimento, velocidade refrigerando rápida, nenhuma contaminação do elétrodo;
• Os materiais da reação são dispersados dinamicamente na tocha de plasma, desta maneira pode evitar a acumulação e o crescimento dos pós, e é aplicada ao derretimento e ao balling de partículas do pó;
• Apropriado para produzir o tungstênio, o molibdênio, o si, o W, o WC, óxido de alumínio, óxido de silicone, óxido de zircônio e o outro metal e pó refratários do óxido
• Forma regular, spheroidization alto, superfície lisa e bom flowability; e a densidade do pó e densidade de volume aumentada

Tecnologia da estrutura de módulo do núcleo

O pó de balling da tocha de plasma da radiofrequência que produz o equipamento é construído com seguimento de sete componentes e de componentes periféricos:

• Tocha de plasma da radiofrequência;
• Fonte de alimentação do plasma da radiofrequência;
• Fornecimento do gás e sistema de alimentação do pó;
• Sala da reação, sala da coleção e apoio;
• Sistema de bombeamento do vácuo;
• Sistema de controlo elétrico e de medição;
• Unidade da água refrigerando.

FAQ

1. Como posso eu conhecer sua fábrica posso produzir o equipamento que eu preciso?

Re: Contacte-nos e deixe-nos conhecer suas exigências do equipamento. Então nós enviaremos estas exigências a nosso departamento técnico. Assim nós saberemos se nossa fábrica pode lhe oferecer o equipamento ou não.

2. Sua empresa personaliza o equipamento para o cliente?

Re: Sim, nós podemos personalizar o equipamento de acordo com as exigências de clientes.

3. Como posso eu acreditar sua qualidade?

Nosso equipamento eqquiped com partes mecânicas de tipos mundialmente famosos como Schneider, Omron e assim por diante, e igualmente aprovou a certificação ISO9001.

www.advancedatomizer.com

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