Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
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Filme de 2 polegadas de espessura (1,2)um AIN em bolacha de safira, DSP, XRD FWHM de (002)≤80arcsec(102) ≤650arcsec Desinfecção UV, chip de LED
Uma película fina de nitreto de alumínio é uma forma de material semicondutor.É altamente condutor e pode suportar altas temperaturas.Também é resistente a eletroímãs e tem um alto ponto de ebulição.Como resultado, é comumente usado em telefones celulares e outros eletrônicos.No entanto, não é aconselhável processar Nitreto de Alumínio em Wafers de Silício sem recozimento adequado.
| Item | AlN-TCU-C50 | ||
| Dimensões | φ50,8 mm±0,1 mm,OF(1-100),Al Face,Location Edge 16,0± 1,0 mm | ||
| Substrato | Safira (lado simples ou duplo polido) | ||
| Grossura | 1~5μm | ||
| Orientação |
Plano C (0001)±1o |
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| Tipo de Condução | Semi-isolante | ||
| Qualidade cristalina | Grossura | XRD FWHM de (002) | XRD FWHM de (102) |
| [1,2)μm | ≤80 segundos de arco | ≤650 segundos de arco | |
| [2,3)μm | ≤100 segundos de arco | ≤550 segundos de arco | |
| [3,4)μm | ≤120 segundos de arco | ≤450 segundos de arco | |
| [4,5)μm | ≤160 segundos de arco | ≤400 segundos de arco | |
| Zona de exclusão de borda |
<2mm |
||
| Rigidez da superfície | Ra<1,5nm(10*10μm) | ||
| Pacote | Embalagem a vácuo em um ambiente de sala limpa classe 10000, em cassetes de 25 peças ou recipientes de wafer único. | ||
Sobre nós
Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.
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