Laser nanômetro/532 do filme fino de 1064 nanômetro que risc a máquina com sistema do alinhamento do CCD
★Application:
Laser que atribui para as células solares P1 /P2/ P3 do filme fino.
Motor X-Y do forro da linha central, fase do granito de 1500 mm/s; laser 1064nm ou 532nm; Velocidade do sistema do rolamento de ar do não-contato do sistema do alinhamento do CCD: 60S/piece, linha largura: 50±10μm, área inoperante: <300μm
★Specification:
Comprimento de onda: 1064 mm532nm
Precisão: ±20μm
Tamanho de ponto: 40~60μm
Precisão de repetição: ±10μm
Velocidade: 1500mm/s
Fonte de alimentação: A 380V/40
Feixe luminoso: 4 feixes
Dimensão: 4040*2140*1800mm
Linha da passagem: 1025 milímetros
Peso: 6000 quilogramas
★Packaging & entrega
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