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Wafer de 4 polegadas de Si Dia 100mm Espessura 350um Orientação <100> DSP SSP Wafer de silício personalizado tipo N tipo P

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Wafer de 4 polegadas de Si Dia 100mm Espessura 350um Orientação <100> DSP SSP Wafer de silício personalizado tipo N tipo P

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Número do modelo :BOLACHA DO SI
Local de origem :China
Condições de pagamento :T/T
Prazo de entrega :4-6 semanas
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Wafer de 4 polegadas de Si Dia 100mm Espessura 350um Orientação <100> DSP SSP Wafer de silício personalizado tipo N tipo P


 

Características da bolacha de Si

 

- utilizaçãoMonocristalhos de silíciopara produzir, com alta pureza, 99,999%

 

- apoiar as personalizadas com desenhos gráficos

 

- a resistividade varia muito de acordo com o tipo dopado

 

- pode ser de tipo P (com boro) ou de tipo N (com fósforo ou arsénio)

 

- amplamente utilizados em áreas de alta tecnologia, como ICs, dispositivos fotovoltaicos e MEMS

 


 

 

Descrição da bolacha de Si

 

Os wafers de silício são discos finos e planos feitos de silício monocristalino altamente purificado e são amplamente utilizados na indústria de semicondutores.

 

Estas placas são o substrato básico para a fabricação de circuitos integrados e uma variedade de dispositivos eletrônicos.

 

Os wafers de silício variam tipicamente de 2 polegadas (50 mm) a 12 polegadas (300 mm) de diâmetro, e sua espessura varia dependendo do tamanho, tipicamente entre 200 μm e 775 μm.

 

As bolinhas de silício são fabricadas usando os métodos Czochralski ou Float-Zone e são polidas cuidadosamente para obter uma superfície espelhada com uma rugosidade mínima.Podem ser dopados com elementos como boro (tipo P) ou fósforo (tipo N) para modificar as suas propriedades elétricas.

 

As principais propriedades incluem alta condutividade térmica, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente resistência mecânica.

 

As wafers também podem ter camadas epitaxial ou camadas finas de dióxido de silício para melhorar as propriedades elétricas e o isolamento.

 

Eles são processados e manuseados em um ambiente de sala limpa para manter a pureza, garantindo alto rendimento e confiabilidade na fabricação de semicondutores.

 


Mais sobre a bolacha de Si

 

Método de crescimento Czochralski ((CZ), zona flutuante ((FZ)
Estrutura cristalina Quadrado
Espaçamento da banda 1.12 eV
Densidade 2.4 g/cm3
Ponto de fusão 1420°C
Tipo de dopante Não dopados Com dopagem por boro Fós-dopado / As-dopado
Tipo condutivo Intrínseco Tipo P Tipo N
Resistividade > 1000 Ωcm 0.001~100 Ωcm 0.001~100 Ωcm
EPD < 100 /cm2 < 100/cm2 < 100/cm2
Teor de oxigénio ≤ 1x1018 /cm3
Teor de carbono ≤ 5x1016 /cm3
Espessura 150 mm, 200 mm, 350 mm, 500 mm ou outros
Poluição de peso superior a 200 g/m2, mas não superior a 300 g/m2
Orientação cristalina <100>, <110>, <111> ± 0,5o ou outros ângulos fora do normal
A rugosidade da superfície Ra≤5Å ((5μmx5μm)

 

 


 

Amostragens da bolacha de Si

Wafer de 4 polegadas de Si Dia 100mm Espessura 350um Orientação <100> DSP SSP Wafer de silício personalizado tipo N tipo P

* Se tiver outros requisitos, por favor, não hesite em contactar-nos para personalizá-los.


 

Sobre nós e a caixa de embalagem
Sobre nós
A nossa empresa, ZMSH, é especializada na investigação, produção, processamento e venda de substratos de semicondutores e materiais de cristal óptico.
Temos uma equipa de engenheiros experientes, conhecimentos de gestão, equipamento de processamento de precisão e instrumentos de teste,fornecendo-nos capacidades extremamente fortes no processamento de produtos não-padrão.
Podemos pesquisar, desenvolver e projetar vários novos produtos de acordo com as necessidades do cliente.
A empresa aderirá ao princípio de "centrada no cliente, baseada na qualidade" e se esforçará para se tornar uma empresa de alta tecnologia de primeira linha no campo dos materiais optoeletrônicos.
 
Sobre a caixa de embalagem
Empenhados em ajudar os nossos clientes, usamos plástico espumado para embalar.
Aqui estão algumas fotos.

 

 
Perguntas frequentes

1. P: Qual a diferença entre tipo P e tipo N de wafers de Si?

R: As wafers de silício do tipo P têm buracos como os principais portadores de carga, enquanto as wafers do tipo N têm elétrons, com diferenças mínimas em outras propriedades físicas como a resistividade.

 

2. P: Wafer Si, Wafer SiO2 e Wafer SiC, quais são as principais diferenças entre eles?

A: As wafers de silício (Si) são substratos de silício puro utilizados principalmente em dispositivos semicondutores,

As bolinhas de SiO2 têm uma camada de dióxido de silício na superfície, muitas vezes usada como uma camada isolante.

As bolinhas de carburo de silício (SiC) são compostas por um composto de silício e carbono, oferecendo maior condutividade térmica e durabilidade,com um diâmetro superior a 30 mm,.

 
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