Fábrica do equipamento de proteção de Shanghai Junqi

Shanghai Junqi Protective Equipment Factory

Manufacturer from China
Dos Estados-activa
6 Anos
Casa / Produtos / FFP1 Disposable Mask /

Máscara descartável de EN149 FFP1

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Fábrica do equipamento de proteção de Shanghai Junqi
Cidade:shanghai
Província / Estado:shanghai
País / Região:china
Pessoa de contato:MrYu
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Máscara descartável de EN149 FFP1

Pergunte o preço mais recente
Número de modelo :Máscara FFP1 descartável
Lugar de origem :CHINA
Quantidade de ordem mínima :Negociável
Termos do pagamento :L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade da fonte :200000pcs/day
Prazo de entrega :3 dias do trabalho
Detalhes de empacotamento :Único item&50pcs/box
Nome do produto :Máscara FFP1 descartável
Eficiência da filtragem :≥80%
Cor :Branco
Padrão :EN149
Estilo :Laço da orelha
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Máscara descartável de EN149 FFP1

 

Características do produto:

 

correia principal Látex-livre

Filtra para fora as bactérias e os vírus

Filtragem efficiency≥80%

en149 máscara, máscara de poeira FFP1

 

Padrão

 

 

Nome do artigo Máscara descartável de EN149 FFP1
Material PP não tecidos
Tipo Cabeça-vestindo, máscara de poeira com carbono ativo
Padrão Máscara de poeira do CE EN149 FFP1
Applification Máscara de poeira FFP1, máscara de poeira da indústria, máscara de poeira ativa do carbono
Palavras chaves máscara de poeira descartável
Pacote 20pcs/box, 400 caixas/caixa
Pagamento T/T, depósitos de 30%; equilíbrio de 70% antes da entrega
 

 

Limitações do uso:
 

Não use o respirador nem não o entre nem não o ficar em uma área contaminada sob as seguintes circunstâncias:

1. A atmosfera contém menos o oxigênio de 19,5%

2. Para a proteção contra gás ou vapores

3. Os contaminadores ou suas concentrações são desconhecidos ou imediatamente perigosos à vida ou à saúde

4. As concentrações ou os contaminadores excedem concentrações máximas do uso em padrões aplicáveis do OSHA ou em regulamentações governamentais aplicáveis ou 10 vezes o PEL (limite de exposição permissível), qualquer é mais baixo.

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