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Equipamento de laboratório 5n/6n 99,999% Sílica de alta pureza Materiais de revestimento óptico de poluição de silício
Os alvos de pulverização de silício são um tipo de material utilizado no processo de pulverização, que é usado para depositar filmes finos de materiais em um substrato.A pulverização é um processo no qual os átomos do material alvo são ejetados e depositados em um substrato, criando um filme fino.
Meta de revestimento a vácuo PVD do CICEL | ||||||
Ponto | Purificação | Densidade | Cor do revestimento | Forma | Tamanho normal | Aplicação |
Meta de liga de titânio (TiAl) | 2N8-4N | 3.6-4.2 | Ouro rosa/café/champagne | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm |
Revestimento decorativo PVD & revestimento duro |
Meta de cromo puro (Cr) | 2N7-4N | 7.19 | cinza/preto | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Meta de titânio puro (Ti) | 2N8-4N | 4.51 | Ouro/Ouro-rosa/Azul/Arco-íris/Negro claro/Cinza | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Alvo de Zircônio puro ((Zr)) | 2N5-4N | 6.5 | ouro claro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Alvo de alumínio puro (Al) | 4N-5N | 2.7 | prata | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Meta de níquel puro (Ni) | 3N-4N | 8.9 | Níquel | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Meta de nióbio puro (Nb) | 3N | 8.57 | Branco | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Alvo de Tântalo puro (Ta) | 3N5 | 16.4 | preto/puro | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Meta de molibdênio puro (Mo) | 3N5 | 10.2 | preto | cilindro/planar | (D) 70/100* (H) 100-2000 mm | |
Observações: O tamanho pode ser personalizado de acordo com os requisitos específicos |
Os alvos de pulverização de silício são feitos de silício de alta pureza e são usados em uma variedade de aplicações, incluindo fabricação de semicondutores, produção de células solares e microeletrônica.Algumas das características e aplicações dos alvos de pulverização de silício incluem:
Alta pureza: os alvos de pulverização de silício são feitos de silício de alta pureza, o que os torna adequados para aplicações de semicondutores e microeletrônicos.
Boa condutividade térmica: O silício tem boa condutividade térmica, o que o torna útil para aplicações que exigem dissipação de calor eficiente.
Baixo rendimento de pulverização: O silício tem um rendimento de pulverização baixo, o que o torna uma boa escolha para aplicações que exigem controle preciso sobre a espessura do filme.
Alto ponto de fusão: O silício tem um alto ponto de fusão, o que o torna uma escolha ideal para aplicações que exigem resistência a altas temperaturas.
Propriedades fotoelétricas: O silício tem propriedades fotoelétricas, o que o torna uma escolha popular para a produção de células solares.
Em geral, os alvos de pulverização de silício são um material de alta qualidade que é adequado para uma ampla gama de aplicações que exigem um material altamente estável, termicamente condutor e fotoelétrico.