Guangzhou Precise Heater Co., Ltd.
Our Precise Heater Way Values For 30 years, PreciseHeater’s commitment to innovation has created a steady stream of new products, a devoted and capable workforce and constant growth. We strive to
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Aquecedor químico em linha realiza aquecimento de fluido de processo semicondutor inigualável
Agora aqueça fluidos de processo de semicondutores até 210°C!
Aquecimento mais rápido:Tamanhos de câmara de aquecimento único até 18kW.
Instalação rápida:Conexões de encanamento personalizadas
Longa vida útil do aquecedor para redução do custo de propriedade (COO):
O sistema patenteado de purga de gás do aquecedor remove continuamente qualquer permeação química e garante uma longa vida útil do elemento.
Longa vida útil do aquecedor e operação limpa:O sistema patenteado de purga de gás do aquecedor remove continuamente a permeação química e garante uma vida útil excepcionalmente longa do elemento.Este sistema também protege contra qualquer potencial contaminação iônica da química.
Construção robusta:A câmara de paredes espessas oferece longa vida útil nas aplicações de alta temperatura mais severas.
Desempenho excepcionalmente limpo:A espessa bainha de fluoropolímero minimiza a permeação.O monitoramento da purga do elemento minimiza o potencial de contaminação iônica.A montagem e os testes em salas limpas garantem os mais altos padrões de fabricação.
Excelente compatibilidade química:Todas as peças embebidas em fluoropolímero compatíveis com praticamente qualquer química.
Excelente estabilidade de temperatura:O design de baixa densidade de watt permite o controle preciso da temperatura do processo.
As aplicações incluem:
SC1: hidróxido de amônio (NH4OH) e peróxido de hidrogênio (H2O2)
SC2: ácido clorídrico (HCl) e peróxido de hidrogênio Processo de corrosão por óxido tamponado (BOE): ácido fluorídrico (HF) e fluoreto de amônio (NH4F)
Decapagem/tira de nitreto: ácido fosfórico (H3PO4)Vários ácidos, tais como:
Cloridrato (HCl)
Hidrofluorídrico (HF)
Acético (C2H4O2)
Nítrico (HNO3)
Sulfúrico (H2SO4)
Ácido sulfúrico e peróxido de hidrogênio
Ácido sulfúrico e ozônio (O3)
Ácido fluorídrico e glicol (C2H6O2)
Hidróxido de potássio (KOH)
Hidróxido de sódio (NaOH)
Níquel não químico Cobre não químico Ouro não químico Água deionizada
Alguns solventes (consultar a fábrica)
Benefícios e Especificações
Aquecimento incomparável de fluidos de processo semicondutores até 210°C.
O sistema patenteado de purga de gás do aquecedor garante longa vida útil do elemento e custo reduzido de propriedade.
A câmara de paredes espessas oferece longa vida útil nas aplicações de alta temperatura mais severas.
O monitoramento da purga do elemento minimiza o potencial de contaminação iônica.A montagem e os testes em salas limpas garantem os mais altos padrões de fabricação.
Todas as peças molhadas de fluoropolímero oferecem excelente compatibilidade com praticamente qualquer produto químico.
O design de baixa densidade de watt permite um controle preciso e estável da temperatura do processo.
Suportes de montagem de alta temperatura PVDF (modelo de alta temperatura)
Opções:
Configuração montada horizontalmente
Serpentinas de refrigeração integrais
RTDs de 100 ohm ou processo do tipo “J”, “K” ou “E” e
elementos termopares
Aquecedores de baixa densidade de watts para aplicações especiais
Especificações:
Serviço:
•Aquecedor químico em linha com todo o fluoropolímero umedecido
superfícies para praticamente qualquer aplicação de química úmida.
Faixa de temperatura: até 210°C.
Pressão máxima de trabalho:
•100 PSIG (7 Bar) a 25oC
•43 PSIG (. Bar) a 180oC
Tamanhos do aquecedor: 1.000 watts até 18.000 watts
Tensões do Aquecedor Disponíveis:
•200 a 600 volts, monofásico ou trifásico (12kW e
maior requer trifásico).
Densidade de watts: 10 watts por polegada quadrada (1,5 w/cm2)
Conexões de fluido disponíveis:
•1⁄4" (6mm) a 1" (25mm) alargado
•1⁄2” (12mm) a 1” (25mm) Super 300 Tipo Pillar®•
Outras conexões disponíveis, consulte a fábrica
Certificações de terceiros: CE, UL, Semi S2 e S3
Purga de elemento:
•Pequena quantidade de ar limpo e seco (CDA) ou N2fluxos de gás
entre o elemento metálico aterrado e a bainha de PTFE
Formulários
Processos úmidos de semicondutores
Esterilização/Limpeza
Limpeza de wafer solar/fotovoltaico
Sensor de nível de líquido
Opções de fio terra
Termopar de temperatura excessiva
termopar de processo
Opções
corte térmico
Termopares
Sensor de nível de líquido de fibra óptica
Sensores RTD
Válvula de alívio de pressão
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Modelo |
LP1 |
LP7 |
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Material Molhado |
PVDF/PFA |
PVDF/PFA |
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Material de Habitação |
Cano |
Cano |
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Temperatura máxima |
95°C |
95°C |
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Pressão |
60 psi a 95°C |
60 psi a 95°C |
|
Poder* |
1-15 kW |
1-18 kW |
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Precisão |
± 0,1o C |
± 0,1o C |
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Tensões** |
200-480 VAC, 1 e 3 fases |
200-600 VAC, 1 e 3 fases |
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Fluxo |
0,5-32 gpm (1,9-122 L/min) |
0,5-32 gpm (1,9-122 L/min) |
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Benefícios |
Altura variável |
Fluxo mais alto, kW |