JOPTEC LASER CO., LTD

Componentes e além do laser

Manufacturer from China
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6 Anos
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Substratos de GaN

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JOPTEC LASER CO., LTD
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Cidade:hefei
Província / Estado:anhui
País / Região:china
Pessoa de contato:MrJACK HAN
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Substratos de GaN

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Lugar de origem :HEFEI, China
Quantidade de ordem mínima :10 PCes
Termos do pagamento :T/T
Capacidade da fonte :5000000 PCS/Month
Prazo de entrega :30 dias
Detalhes de empacotamento :CAIXAS
Material :GaN
Tipo :GaN-FS-10, GaN-FS-15
Orientação :± 0.5° da C-linha central (0001)
TTV :µm ≤15
Curva :µm ≤20
Concentração de portador :>5x1017/cm3
Espessura típica (milímetros) :N-tipo, Semi-isolando
Resistividade (@300K) :< 0="">106 Ω•cm
Área de superfície útil :> 90%
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Com um amplo intervalo de banda direta (< 3,4 eV), fortes ligações atômicas, alta condutividade térmica e excelente resistência à radiação, o GaN não é apenas um material optoeletrônico de comprimento de onda curto,mas também um bom material alternativo para dispositivos de semicondutores de alta temperaturaCom base nas propriedades físicas e químicas estáveis, o GaN é adequado para aplicações de LED (luz azul, verde, UV), detectores ultravioleta e dispositivos optoeletrônicos de alta potência e alta frequência.

 

Especificações
Tipo GaN-FS-10 GaN-FS-15
Tamanho 10.0 mm × 10,5 mm 14.0 mm × 15,0 mm
Espessura

Classe 300, Classe 350,

Classe 400

300 ± 25 μm, 350 ± 25 μm,

400 ± 25 μm

Orientação Eixo C ((0001) ± 0,5°
TTV ≤ 15 μm
Arco-íris ≤ 20 μm
Concentração do portador > 5x1017/cm3 /
Tipo de condução Tipo N Semi-isolação
Resistividade ((@ 300K) < 0,5 Ω•cm > 106Ω•cm
Densidade de dislocação Menos de 5x106cm-2
Área de superfície utilizável > 90%
Poluição

Superfície frontal: Ra < 0,2 nm. Polida para epi

Superfície traseira: solo fino

Pacote Embalado num ambiente de sala limpa de classe 100, em recipientes de wafer único, sob uma atmosfera de nitrogénio.
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