Fornalha de alta temperatura da pressão quente do vácuo com desempenho do estábulo do controle do PLC auto

De alta temperatura. Fornalha da pressão quente do vácuo com auto controle do PLC

A fornalha quente da imprensa do vácuo usada principalmente para a aglomeração de alta temperatura e o tratamento quente da imprensa, tal como o material inorgánico, liga dura, função cerâmica, pó da metalurgia. A densidade material podia ser aumentada sob uma circunstância do vácuo ou uma atmosfera protetora.

• O elemento de aquecimento podia ser selecionado de acordo com a diferença da temperatura da imprensa e do nível quentes do vácuo. O módulo da resistência é apropriado abaixo de 1200℃ e o calefator da grafite é apropriado sobre 1200℃.
• A escala da imprensa é ajustável abaixo de 5 toneladas de modo que seja possa ser usada para a aglomeração da amostra e a imprensa quente que testam para evitar o desperdício do recurso.
• Agrupamento por uma régua de raspagem com precisão alta a 0.02mm.
• Todos a ação podiam ser controlados por um sistema do PLC, incluindo o controle de temperatura, ajuste da imprensa, auto seguimento da temperatura. Toda a monitoração e dados do corredor da fornalha podiam ser indicados e registro no tela táctil, tal como a temperatura, nível do vácuo, deslocamento. A curva dos dados podia verificar dentro o tempo real.
• W-re par termoelétrico na baixa temperatura e par termoelétrico infravermelho para a alta temperatura. O W-re par termoelétrico será auto parado na alta temperatura.

De alta temperatura. Parâmetro técnico da fornalha da pressão quente do vácuo:

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