Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd

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Alta pureza Planar Molybdenum Sputtering Target Plate Cinza

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Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
Cidade:luoyang
País / Região:china
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Alta pureza Planar Molybdenum Sputtering Target Plate Cinza

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Número do modelo :Alvos de pulverização planar de molibdênio
Quantidade mínima de encomenda :negocie
Condições de pagamento :L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade de abastecimento :10000sets/month
Tempo de entrega :30 dias após receber o pagamento inicial
Detalhes da embalagem :caixas padrão de exportação
nome :Alvos de pulverização planar de molibdênio
Características :Pureza alta
Forma :Placas
Composição química :99.95% Min Mo
Logotipo :Logotipo personalizado
Aplicação :Ecrãs LCD e touch;
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Alvos de pulverização planar de molibdênio de alta pureza

 

Descrição do alvo de pulverização de molibdênio

 

Na indústria electrónica, os alvos de pulverização de molibdênio são utilizados principalmente para ecrãs de painel plano,Eletrodos e materiais de fiação para células solares de película fina e materiais de camada de barreira para semicondutoresEstes são baseados no elevado ponto de fusão do molibdênio, na elevada condutividade elétrica, na baixa impedância específica, na boa resistência à corrosão e nas boas propriedades ambientais.

 

Parâmetros dos alvos de pulverização planar de molibdênio

 

Materiais:

Molibdênio

Forma:

Placas

Purificação:

990,5%

Densidade:

10.2 g/cm

Cor:

De prata

Padrão:

ASTM B386

Tamanho:

Costomizados

Superfície:

Brilhante

Luz alta:

99Meta de poluição por molibdênio.95%

Meta de pulverização de molibdênio 10,2 g/Cm3

Placas de molibdênio 10,2 g/Cm3

 

OD ((mm)

ID ((mm)

Duração ((mm)

Fabricados sob medida

140-180 mm

125-135 mm

100-3300

Capacidade de produção (alvo de pulverização planar de molibdênio)

Rectângulo

Duração (mm)

Largura (mm)

Espessura ((mm)

Feito sob medida

10 - 3000

10 - 800

1.0 a 50.8

Circular

Diâmetro em mm

 

Espessura (mm)

10 - 1000

 

1.0 - 100

Especificações

 

Composição

Mo (Mo1, TZM)

Purificação

99.95%

Densidade

10.2 g/cm3

Tamanhos dos grãos

100 m2 ou a pedido

Resistência à corrosão

Ra≤0,4m

Tolerância à aplanura

< 4um

Número atómico

42

Número CAS

7439-98-7

Massa atómica

95.94 [g/mol]

Ponto de fusão

2620 °C

Ponto de ebulição

4639 °C

Densidade a 20 °C

10.22 [g/cm]

Estrutura cristalina

Cubo centrado no corpo

Coeficiente de expansão térmica linear a 20 °C

5.210-6[m/mK]

Conductividade térmica a 20 °C

142 [W/mK]

Calor específico a 20 °C

0.25 [J/gK]

Conductividade elétrica a 20 °C

17.9106[S/m]

Resistência elétrica específica a 20 °C

0.056 [(mm2)/m]

 

Aplicações:

 

Indústria solar de película fina, células solares, engenharia de superfícies

Indústria do controlo táctil, ecrãs planos

Indústria de semicondutores, microeletrónica, iluminação automóvel e revestimento decorativo,

Indústria de vidro revestido (incluindo vidro arquitectónico, vidro automotivo, vidro óptico e outros filmes), etc.

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