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1,Descrição:
Material: Os materiais alvo de tungstênio são tipicamente fabricados a partir de tungstênio de alta pureza ou ligas de tungstênio, especificamente concebidos para uso em processos de deposição física de vapor (PVD).
Alto ponto de fusão: o tungstênio tem um ponto de fusão excepcionalmente elevado de aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit),que permitam resistir às altas temperaturas geradas durante os processos PVD.
Densidade: Os materiais alvo de tungstênio têm uma alta densidade, normalmente variando de 17,8 a 19,3 gramas por centímetro cúbico (g/cm3), garantindo uma alta taxa de deposição e uma utilização eficiente do material.
2,Especificações:
Materiais | Outros, de aço inoxidável |
Ponto de fusão | Aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit) |
Densidade | 17.8 - 19,3 g/cm3 (g/cm3) |
Conductividade térmica | Excelente condutividade térmica |
Taxa de pulverização | Relativamente baixa taxa de pulverização, perda mínima de material |
Purificação | Altos níveis de pureza, impurezas mínimas |
Uniformidade | Dimensões precisas e uniformidade para uma deposição de filme consistente |