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Carcaça do Photomask de quartzo para FPD e Chip Use
Área de aplicação
Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da microplaqueta do circuito integrado, FPD (tela plano),
MEMS (micro eletro sistemas mecânicos), etc.
Princípio de funcionamento
A máscara é uma máscara mestra gráfica de uso geral na fotolitografia da fabricação micro-nano. A estrutura gráfica
é formado em uma carcaça transparente por um photomask opaco, e a informação gráfica é transferida então ao
carcaça do produto com um processo da exposição.
Características
Carcaça do Photomask para o uso de FPD
| Modelo/material | Tamanho | Capacidade de processamento |
| 5280 / Quartzo | × 520mm de 800mm | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
| 3035 / Quartzo | × 300mm de 350mm | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
| 6 polegadas/quartzo | × 152mm de 152mm | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
| 5 polegadas/quartzo | × 127mm de 127mm | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
Carcaça do Photomask para o uso da microplaqueta
| Modelo/material | Tamanho | Capacidade de processamento |
| 5009 / Quartzo | 5 polegadas de × 5 polegadas de × 0,09 polegadas | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
| 6012 / Quartzo | 6 polegadas de × 6 polegadas de × 0,12 polegadas | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
| 6025 / Quartzo | 6 polegadas de × do × 6inches 0,25 polegadas | Moedura, lustrando, chapeamento de Chrome, colando |
Fluxo de processo
Detecção das matérias primas do →
Moedura áspera do →
Lustro áspero do →
Limpeza da máscara do →
Inspeção do desempenho das matérias primas do →
O → chapeou pelo cromo
Testes de desempenho da máscara do →
Revestimento do fotoresistente do →
Empacotamento do →
Transporte do →
Nossas vantagens
Nós somos fabricante.
Processo maduro.
Resposta dentro de 24 horários laborais.
Nossa certificação do ISO
Partes de nossas patentes
Partes de nossas concessões e qualificações do R&D