Categorias de Produtos

Contate

Grupo de ZEIT

Cidade:chengdu

Província / Estado:sichuan

País / Região:china

Pessoa de contato:MsTyra

Ver detalhes de contato

Contate

1 - 10 De 149

Produtos

Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrate 5 × 5 × 0,09 polegadas

5 polegadas × 5 polegadas × 0,09 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de

Contate

Add to Cart

6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

6 polegadas × 6 polegadas × 0,12 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de

Contate

Add to Cart

Substrato de fotomáscara de quartzo de 6 × 6 × 0,25 polegadas para processo de fotolitografia

6 polegadas × 6 polegadas × 0,25 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de

Contate

Add to Cart

Substrato de fotomáscara de quartzo de 127 × 127 mm para uso em tela plana

carcaça do Photomask de quartzo do × 127mm de 127mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric

Contate

Add to Cart

152×152mm FPD Photomask Substrato para Micro Nano Fabricação

carcaça do Photomask de quartzo do × 152mm de 152mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric

Contate

Add to Cart

Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

carcaça do Photomask de quartzo do × 300mm de 350mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric

Contate

Add to Cart

Esmerilhamento Polimento Cromado 5280 Quartz Photomask Substrato 800 mm × 520 mm

carcaça do Photomask de quartzo de 800mm×520mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação

Contate

Add to Cart

Substrato de fotomáscara de quartzo de polimento de moagem para uso de FPD e cavacos

Carcaça do Photomask de quartzo para FPD e Chip Use Área de aplicação Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da mic

Contate

Add to Cart

Substrato Especial

Substrato Especial Capacidade de processamento Capaz de realizar os processos completos em design óptico, design de instrumentos, mo

Contate

Add to Cart

prisma pentagonal

prisma pentagonal Capacidade de processamento Capaz de realizar os processos completos em design óptico, design de instrumentos, moldage

Contate

Add to Cart

Produtos

Equipamento de revestimento ótico

Equipamento de revestimento ótico

Equipamento de teste ótico

Carcaça do Photomask

Máquina de revestimento de Magnetorheological

Elementos óticos

Equipamento atômico do depósito da camada

Magnétron que engasga a máquina de revestimento

Equipamento da detecção do defeito de superfície

Sistema de medida do Birefringence

Equipamento da inspeção do nivelamento

Equipamento de superfície da inspeção

Equipamento não padrão

Linha de produção automatizada soluções

Sistema do interferômetro do laser

Digitas Autocollimator

Lente do interferômetro

Produtos

Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrate 5 × 5 × 0,09 polegadas

6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

Substrato de fotomáscara de quartzo de 6 × 6 × 0,25 polegadas para processo de fotolitografia

Substrato de fotomáscara de quartzo de 127 × 127 mm para uso em tela plana

152×152mm FPD Photomask Substrato para Micro Nano Fabricação

Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

Esmerilhamento Polimento Cromado 5280 Quartz Photomask Substrato 800 mm × 520 mm

Substrato de fotomáscara de quartzo de polimento de moagem para uso de FPD e cavacos

Substrato Especial

prisma pentagonal