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Carcaça do Photomask

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Cidade:chengdu
Província / Estado:sichuan
País / Região:china
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 Carcaça do Photomask

Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quartz Photomask Substrate 5 × 5 × 0,09 polegadas

5 polegadas × 5 polegadas × 0,09 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de
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6 × 6 × 0,12 polegadas MEMS Chrome Photomask Substrato Revestimento fotorresistente

6 polegadas × 6 polegadas × 0,12 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de
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Substrato de fotomáscara de quartzo de 6 × 6 × 0,25 polegadas para processo de fotolitografia

6 polegadas × 6 polegadas × 0,25 polegadas Substrato de fotomáscara de quartzo para uso em chip Formulários Os campos do processo de
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Substrato de fotomáscara de quartzo de 127 × 127 mm para uso em tela plana

carcaça do Photomask de quartzo do × 127mm de 127mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric
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152×152mm FPD Photomask Substrato para Micro Nano Fabricação

carcaça do Photomask de quartzo do × 152mm de 152mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric
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Substrato fotomáscara de quartzo 350 × 300 mm para fabricação de chip de circuito integrado

carcaça do Photomask de quartzo do × 300mm de 350mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabric
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Esmerilhamento Polimento Cromado 5280 Quartz Photomask Substrato 800 mm × 520 mm

carcaça do Photomask de quartzo de 800mm×520mm para o uso de FPD Aplicações Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação
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Substrato de fotomáscara de quartzo de polimento de moagem para uso de FPD e cavacos

Carcaça do Photomask de quartzo para FPD e Chip Use Área de aplicação Os campos do processo da fotolitografia, tais como a fabricação da mic
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