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Planta Nm3/h KDON-500Y/500Y do oxigênio líquido que protege o líquido de refrigeraço e refrigerando do gás do nitrogênio
Especificações:
Produto padro para a série da planta KDON-50~500 do oxigênio líquido
MODELO ÍNDICES | KDON-65Y/500/150Y | KDON-100/500Y/400Y | KDON-320Y/100Y | KDON-200/100 | KDON-400Y/65Y | |
GAN/LIN fluem | Nm3/h | 500/150 | 400 (Y) | 100 (Y) | 100/60 | 65 (Y) |
Pureza de GAN/LIN | ppm | ≤5ppmO2 | ≤5ppmO2 | ≤1ppmO2 | ≤10ppmO2 | ≤1ppmO2 |
GOX/LOX fluem | Nm3/h | 65 (Y) | 100/500 | 320 (Y) | 200/230 | 400 (Y) |
GOX/LOX pureza | ppm | 99,6% O2 | 99,6% O2 | 99,5% O2 | 99,6% O2 | 99,5% |
Presso de GAN/LIN | MPa | 0,0007 | 0,16 | 0,2 | 0.018/0.16 | 0,2 |
GOX/LOX presso | MPa | 0,16 | 0.025/0.16 | 0,15 | 0.025/0.12 | 0,15 |
LAr fluxo | Nm3/h |
| 17 |
|
|
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LAr pureza | ppm |
| 99,999% |
|
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LAr presso | MPa |
| 0,16 |
|
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Produto típico: Planta do oxigênio de KDON-500Y/500YLiquid
Saída, pureza e presso
Produto | Fluxo (Nm3/h) | Pureza | MPa da presso (G) |
GAN/LIN | 500 (Y) | 2ppmO2 | 0,2 |
GOX/LOX | 500 (Y) | ≥99.6%O2 | 0,9 |
Descriço:
Este é um processo completo da baixa presso em que o ar é refinado pelo MS com o refrigerador da baixa temperatura e expanso de impulso da turbina. Um grupo de refrigerador da baixa temperatura e dois expansores so adicionados para fornecer a capacidade fria ao produto líquido.
O ar depois que refinado é dividido em 3 porções, o ar de refrigeraço pelo refrigerador com temperatura de -30℃ flui no permutador de calor principal outra vez, e é dividido em 2 porções: os fluxos de uma parte no expansor 1 a ser expandido, e fluem ento na placa-aleta a ser rewarmed, e fluem ento entrada do compressor de ar; a outra parte continuamente é refrigerada e estrangulada na placa-aleta, e flui ento a uma mais baixa coluna.
Com retificaço preliminar em uma mais baixa coluna, o ar líquido e LIN so obtidos da parte inferior e da parte superior de uma mais baixa coluna separadamente. A toca, LIN waste e LIN de uma mais baixa coluna subcooled no subcooler E2 de Lair/LIN, e so alimentados ento coluna superior a ser retificada mais. O LOX com pureza de 99,6% é obtido ento no fundo da coluna superior. A saída exigida do LOX é retirada fora da caixa fria ao sistema do armazenamento do LOX de cliente.
LIN com pureza de 2ppmO2 retirado da parte inferior de uma mais baixa coluna subcooled no subcooler de Lair/LIN, a seguir a saída exigida da pureza alta LIN é retirada fora da caixa fria ao sistema do armazenamento de LIN de cliente.
Aplicações:
Vantagens competitivas: