GaN On Diamond And Dimond no HEMT de GaN Wafer By Epitaxial e na ligação

Número do modelo:dissipador de calor
Lugar de origem:China
Quantidade mínima de pedido:1 peça
Termos de pagamento:T/T, Western Union
Tempo de entrega:2-6weeks
Detalhes da embalagem:única caixa do recipiente da bolacha
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bolachas customzied de GaN& Diamond Heat Sink do método do tamanho MPCVD para a área térmica da gesto


GaN é amplamente utilizado em campos da radiofrequência, rapidamente do carregamento e o outro, mas seus desempenho e confiança so relacionados temperatura no canal e no efiect de aquecimento do joule. Os materiais de uso geral da carcaça (safira, silicone, carboneto de silicone) de dispositivos de poder GaN-baseados têm a baixa condutibilidade térmica. Limita extremamente a dissipaço de calor e as exigências de desempenho de alta potência do dispositivo. Confiando somente em materiais tradicionais da carcaça (silicone, carboneto de silicone) e na tecnologia refrigerando passiva, é difícil cumprir as exigências da dissipaço de calor sob as circunstncias do poder superior, limitando severamente a liberaço do potencial de dispositivos de poder GaN-baseados. Os estudos mostraram que o diamante pode significativamente melhorar o uso de dispositivos de poder GaN-baseados. Problemas térmicos existentes do efeito.

O diamante tem a diferença de faixa larga, a condutibilidade térmica alta, a força de campo alta da diviso, a mobilidade de portador alta, a resistência de alta temperatura, a resistência do ácido e do alcaloide, a resistência de corroso, a resistência de radiaço e outras propriedades superiores
O poder superior, alta frequência, campos de alta temperatura joga um papel importante, e é considerado como um dos materiais largos os mais prometedores do semicondutor da diferença de faixa.


O diamante é um material super da dissipaço de calor com desempenho excelente:
• O diamante tem a condutibilidade térmica a mais alta de todo o material na temperatura ambiente. E o calor é a razo importante da falha de produto eletrônica.


De acordo com estatísticas, a temperatura da junço de trabalho deixará cair baixo 10 que o ° C pode dobrar a vida do dispositivo. A condutibilidade térmica do diamante é 3 a 3 mais altos do que aquele de materiais térmicos comuns da gesto (tais como o cobre, o carboneto de silicone e o nitreto de alumínio)
10 vezes. Ao mesmo tempo, o diamante tem as vantagens da isolaço de pouco peso, elétrica, força mecnica, baixa toxicidade e baixa constante dielétrica, que fazem o diamante, é uma escolha excelente de materiais da dissipaço de calor.


• Dê o jogo completo ao desempenho térmico inerente do diamante, que resolverá facilmente de “o problema da dissipaço calor” enfrentado pelo poder, por dispositivos de poder, etc. eletrônicos.

No volume, melhore a confiança e para aumentar a densidade de poder. Uma vez que o problema “térmico” é resolvido, o semicondutor estará melhorado igualmente significativamente eficazmente melhorando o desempenho da gesto térmica,
A vida útil e o poder do dispositivo, ao mesmo tempo, para reduzir extremamente os custos de operaço.



Método da combinaço

  • 1. Diamante em GaN
  • Diamante crescente na estrutura do HEMT de GaN
  • 2. GaN no diamante
  • Crescimento epitaxial direto de estruturas de GaN na carcaça do diamante
  • 3. GaN/ligaço do diamante
  • Depois que o HEMT de GaN é preparado, ligaço de transferência carcaça do diamante

Área de aplicaço

• Uma comunicaço da radiofrequência 5G da micro-ondas, aviso de radar, uma comunicaço satélite e outras aplicações;

• Grade esperta da eletrônica de poder, trnsito do trilho de alta velocidade, veículos novos da energia, produtos eletrónicos de consumo e outras aplicações;

Luzes do diodo emissor de luz da ótica eletrónica, lasers, fotodetector e outras aplicações.


Diamante em GaN

Nós usamos o equipamento do depósito de vapor químico do plasma da micro-ondas para conseguir o crescimento epitaxial do material policristalino do diamante com uma espessura de <10um on="" a="" 50=""> (HEMT silicone-baseado do nitreto do gálio de 2 polegadas). Um microscópio de elétron da varredura e um diffractometer do raio X foram usados para caracterizar a morfologia de superfície, a qualidade cristalina, e a orientaço da gro do filme do diamante. Os resultados mostraram que a morfologia de superfície da amostra era relativamente uniforme, e as grões do diamante mostraram basicamente um crescimento plano (doente). Orientaço plana de cristal mais alta. Durante o processo do crescimento, o nitreto do gálio (GaN) é impedido eficazmente da gravar pelo plasma do hidrogênio, de modo que as características do GaN antes e depois do revestimento do diamante no mudem significativamente.


GaN no diamante

Em GaN no crescimento epitaxial do diamante, CSMH usa um processo especial para crescer AlN

AIN como a camada epitaxial de GaN. CSMH tem atualmente um produto disponível

Epi-pronto-GaN no diamante (AIN no diamante).


Ligaço de GaN/diamante

Os indicadores técnicos de produtos do diamante do dissipador de calor e do bolacha-nível do diamante de CSMH alcançaram o nível principal do mundo. A aspereza de superfície da superfície do crescimento do diamante do bolacha-nível é Ra_2000W/m.K. Ligando com GaN, a temperatura do dispositivo pode igualmente eficazmente ser reduzida, e a estabilidade e a vida do dispositivo podem ser melhoradas.




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GaN On Diamond And Dimond no HEMT de GaN Wafer By Epitaxial e na ligação

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