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1Os wafers de 4H-SiC (carbono de silício) de alta pureza, semi-isolaço, so materiais semicondutores muito ideais.
2A folha de 4H-SiC semi-isolada é preparada por pirólise a altas temperaturas, crescimento de cristais e processo de corte.
3As folhas de 4H-SiC semi-isoladas de alta pureza têm concentrações de transportadores mais baixas e propriedades de isolamento mais elevadas.
4O 4H-SiC é uma rede hexagonal. Esta estrutura cristalina confere ao 4H-SiC excelentes propriedades físicas e elétricas.
5O processo requer alta pureza de matérias-primas e preciso para assegurar a estrutura consistente da bolacha de silício.
Característicasde HP 4H-semi SIC:
A folha de 4H-SiC (carburo de silício) semi-isolada de alta pureza é um material semicondutor ideal:
1Largura da faixa: Geralmente, o 4H-SiC tem uma largura de faixa de
cerca de 3,26 elétronvolts (eV).
2Devido sua estabilidade térmica e propriedades de isolamento, o 4H-SiC pode funcionar numa ampla gama de temperaturas.
3O 4H-SiC tem uma elevada resistência radiaço utilizada na energia
nuclear e em experimentos de física de altas energias.
4O 4H-SiC tem uma elevada dureza e resistência mecnica, o que lhe confere uma excelente estabilidade e fiabilidade.
5O 4H-SiC tem uma elevada mobilidade eletrônica na faixa de 100-800 centímetros quadrados / (v · segundo) (cm ^ 2 / (V · s).
6. Alta condutividade térmica: o 4H-SiC tem uma condutividade
térmica muito elevada, cerca de 490-530 watts/m-kelle (W/m·K).
7Resistência alta tenso: o 4H-SiC tem uma excelente resistência
tenso, tornando-o adequado para aplicações de alta tenso.
Parmetros técnicos deHP 4H-semi SIC:
Produço | Investigaço | Tonto. | |
Tipo | 4H | 4H | 4H |
ResistividadeOhm·cm) | ≥ 1E9 | 100% de área>1E5 | 70% da área> 1E5 |
Dimetro | 99.5~100 mm | 99.5~100 mm | 99.5~100 mm |
Espessura | 500 ± 25 μm | 500 ± 25 μm | 500 ± 25 μm |
No eixo | <0001> | <0001> | <0001> |
Fora do eixo | 0 ± 0,25° | 0 ± 0,25° | 0 ± 0,25° |
Comprimento plano secundário | 18 ± 1,5 mm | 18 ± 1,5 mm | 18 ± 1,5 mm |
TTV | ≤ 5 μm | ≤ 10 μm | ≤ 20 μm |
LTV | ≤ 2 μm ((5 mm*5 mm) | ≤ 5 μm ((5 mm*5 mm) | NA |
Incline-se. | -15 μm~15 μm | - 35 μm ~ 35 μm | -45 μm~45 μm |
Warp. | ≤ 20 μm | ≤ 45 μm | ≤ 50 μm |
Ra(5 μm*5 μm) | Ra≤0,2 nm | Ra≤0,2 nm | Ra≤0,2 nm |
Densidade dos microtubos | ≤ 1ea/cm2 | ≤ 5ea/cm2 | ≤ 10ea/cm2 |
Margem | Chamfer | Chamfer | Chamfer |
As folhas de 4H-SiC (carburo de silício) semi-isoladas de alta pureza so amplamente utilizadas em muitos campos:
1Dispositivos optoeletrônicos: O 4H-SiC semi-isolado é amplamente utilizado na fabricaço de dispositivos optoeletrônicos.
2Dispositivos de RF e microondas: As características de alta mobilidade de elétrons e baixa perda do 4H-SiC semi-isolado.
3Outros campos: O 4H-SiC semi-isolado tem também algumas aplicações noutros campos, tais como detectores de irradiaço.
4Devido elevada condutividade térmica e excelente resistência mecnica do 4H-semi SiCem temperaturas extremas.
5Dispositivos electrónicos de potência: O 4H-SiC semi-isolado é
amplamente utilizado na fabricaço de dispositivos de potência de
alta potência.
Perguntas frequentes sobre HPSI4H-semi SIC:
P: Qual é a marca deHPSI 4h-semi SIC?
A: O nome da marcaHPSI 4h-semi SICé ZMSH.
Q: O que é a certificaço deHPSI 4h-semi SIC?
A: A certificaço deHPSI 4h-semi SICé ROHS.
P: Onde é o local de origem deHPSI 4h-semi SIC?
A: O local de origemHPSI 4h-semi SICé a CHINA.
Q: Qual é o MOQ deHPSI 4h-semi SIC por vez?
A: O MOQ deHPSI 4h-semi SICSo 25 peças de cada vez.