Wafers SIC de alta pureza de 4" 4H-Semi Prime Grade Semicondutores EPI Substratos

Número do modelo:HPSI 4h-Semi SIC
Local de origem:China
Quantidade mínima de encomenda:25pcs
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Wafers SIC de alta pureza de 4H-Semi Prime Grade Substratos EPI de semicondutores


Descriço do SIC HP 4H:


1Os wafers de 4H-SiC (carbono de silício) de alta pureza, semi-isolaço, so materiais semicondutores muito ideais.


2A folha de 4H-SiC semi-isolada é preparada por pirólise a altas temperaturas, crescimento de cristais e processo de corte.


3As folhas de 4H-SiC semi-isoladas de alta pureza têm concentrações de transportadores mais baixas e propriedades de isolamento mais elevadas.


4O 4H-SiC é uma rede hexagonal. Esta estrutura cristalina confere ao 4H-SiC excelentes propriedades físicas e elétricas.


5O processo requer alta pureza de matérias-primas e preciso para assegurar a estrutura consistente da bolacha de silício.


Característicasde HP 4H-semi SIC:


A folha de 4H-SiC (carburo de silício) semi-isolada de alta pureza é um material semicondutor ideal:


1Largura da faixa: Geralmente, o 4H-SiC tem uma largura de faixa de cerca de 3,26 elétronvolts (eV).


2Devido sua estabilidade térmica e propriedades de isolamento, o 4H-SiC pode funcionar numa ampla gama de temperaturas.


3O 4H-SiC tem uma elevada resistência radiaço utilizada na energia nuclear e em experimentos de física de altas energias.


4O 4H-SiC tem uma elevada dureza e resistência mecnica, o que lhe confere uma excelente estabilidade e fiabilidade.


5O 4H-SiC tem uma elevada mobilidade eletrônica na faixa de 100-800 centímetros quadrados / (v · segundo) (cm ^ 2 / (V · s).


6. Alta condutividade térmica: o 4H-SiC tem uma condutividade térmica muito elevada, cerca de 490-530 watts/m-kelle (W/m·K).


7Resistência alta tenso: o 4H-SiC tem uma excelente resistência tenso, tornando-o adequado para aplicações de alta tenso.


Parmetros técnicos deHP 4H-semi SIC:



Produço

Investigaço

Tonto.

Tipo

4H

4H

4H

ResistividadeOhm·cm)

≥ 1E9

100% de área>1E5

70% da área> 1E5

Dimetro

99.5~100 mm

99.5~100 mm

99.5~100 mm

Espessura

500 ± 25 μm

500 ± 25 μm

500 ± 25 μm

No eixo

<0001>

<0001>

<0001>

Fora do eixo

0 ± 0,25°

0 ± 0,25°

0 ± 0,25°

Comprimento plano secundário

18 ± 1,5 mm

18 ± 1,5 mm

18 ± 1,5 mm

TTV

≤ 5 μm

≤ 10 μm

≤ 20 μm

LTV

≤ 2 μm ((5 mm*5 mm)

≤ 5 μm ((5 mm*5 mm)

NA

Incline-se.

-15 μm~15 μm

- 35 μm ~ 35 μm

-45 μm~45 μm

Warp.

≤ 20 μm

≤ 45 μm

≤ 50 μm

Ra(5 μm*5 μm)

Ra≤0,2 nm

Ra≤0,2 nm

Ra≤0,2 nm

Densidade dos microtubos

≤ 1ea/cm2

≤ 5ea/cm2

≤ 10ea/cm2

Margem

Chamfer

Chamfer

Chamfer


AplicaçõesdeHP 4H-semi SIC:


As folhas de 4H-SiC (carburo de silício) semi-isoladas de alta pureza so amplamente utilizadas em muitos campos:


1Dispositivos optoeletrônicos: O 4H-SiC semi-isolado é amplamente utilizado na fabricaço de dispositivos optoeletrônicos.


2Dispositivos de RF e microondas: As características de alta mobilidade de elétrons e baixa perda do 4H-SiC semi-isolado.


3Outros campos: O 4H-SiC semi-isolado tem também algumas aplicações noutros campos, tais como detectores de irradiaço.


4Devido elevada condutividade térmica e excelente resistência mecnica do 4H-semi SiCem temperaturas extremas.


5Dispositivos electrónicos de potência: O 4H-SiC semi-isolado é amplamente utilizado na fabricaço de dispositivos de potência de alta potência.



Outro produto relacionado HP 4-H-semi SIC:


4H-N SIC



Perguntas frequentes sobre HPSI4H-semi SIC:


P: Qual é a marca deHPSI 4h-semi SIC?

A: O nome da marcaHPSI 4h-semi SICé ZMSH.


Q: O que é a certificaço deHPSI 4h-semi SIC?

A: A certificaço deHPSI 4h-semi SICé ROHS.


P: Onde é o local de origem deHPSI 4h-semi SIC?

A: O local de origemHPSI 4h-semi SICé a CHINA.


Q: Qual é o MOQ deHPSI 4h-semi SIC por vez?

A: O MOQ deHPSI 4h-semi SICSo 25 peças de cada vez.


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Wafers SIC de alta pureza de 4" 4H-Semi Prime Grade Semicondutores EPI Substratos

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