4' 5' SiO2 Single Crystal IC Chips Método CZ 500um 1mm Camada de oxidação 500nm 2μM

Número do modelo:Chips de SiO2
Local de origem:China
Quantidade mínima de encomenda:25pcs
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4' 5' SiO2 Single Crystal IC Chips Método CZ 500um 1mm Camada de oxidaço 500nm 2μm


Descriço:

O silício monocristalino é um elemento no metálico mais ativo, é uma parte importante dos materiais cristalinos, na vanguarda do desenvolvimento de novos materiais.A sua principal utilizaço é como material para semicondutores e para a geraço de energia solar fotovoltaica.Porque a energia solar tem muitas vantagens como limpa, proteço ambiental e conveniência, nos últimos 30 anos,A tecnologia de utilizaço da energia solar alcançou um grande progresso na investigaço e desenvolvimento, a produço comercial e o desenvolvimento do mercado, e tornou-se uma das indústrias emergentes de desenvolvimento rápido e estável do mundo.A bolacha de silício monocristalino é uma haste de silício monocristalino cortada através de uma série de processos, os métodos de preparaço de silício monocristalino incluem o método CZ (método CZ), o método de fuso por zona (método FZ) e o método epitaxia,com um dimetro superior a 50 mm,A maior procura de cristais únicos de silício fuso por zona provém de dispositivos semicondutores de potência.


Características:

A sílica pode ser dividida em sílica natural e sílica sintética, duas categorias.A sílica natural é principalmente um pó ultrafine formado por minério de silício de alta qualidade através de moagem mecnica e outros métodos físicosA sílica sintética é um material amorfo de óxido de silício sintético em pó, embora a sua estrutura e o preto de carbono sejam diferentes,mas o desempenho da aplicaço é semelhante ao preto de carbonoA sílica sintética é normalmente um pó floculante branco, com propriedades físicas de resistência a altas temperaturas,no inflamáveis, no tóxico, insípido, com bom isolamento elétrico, to amplamente utilizado em borracha, plásticos, revestimentos, adesivos, selantes, materiais de isolamento térmico e outros campos.A sílica sintética divide-se principalmente em sílica fumada e sílica de fase líquida, e a sílica de fase líquida pode ser dividida em sílica precipitada e sílica de gel.


Parmetros técnicos:

NúmerosParmetros
Densidade2.5 g/cm3
Ponto de fuso1700°C
Ponto de ebuliço2330°C
Índice de refraço1.8
Mol. wt61.080
Aparênciacinza claro
SolubilidadeInsolúvel
Ponto de sinterizaço880°C~1490°C
Método de preparaçoOxidaço seca/umida
Warp.5um
Incline-se.5um
TTV5um
Orientaço111
Ra0.3nm
Resistividade0.001-50 ((Ω•cm)
Tolerncia± 0,4 mm
TipoTipo N; tipo P
PoluiçoDSP da SSP

Aplicações:

O SiO2 industrial é chamado de preto de carbono branco, que é leve e é um pó ultrafinho.e os seus campos de aplicaço so muito amplosOs métodos de preparaço da sílica incluem, actualmente, principalmente: o método da fase gasosa, o método da precipitaço, o método da síntese hidrotérmica, o método da síntese hidrográfica, o método da precipitaço e o método da síntese hidrográfica.Método de reaço por microemulso, método de destilaço por azeotrópio e método de reaço por hipergravidade.

1- Fabricaço de vidro, vidro de quartzo, vidro de água, fibras ópticas, peças da indústria electrónica, instrumentos ópticos, artesanato e materiais refratários.

2.Pode ser utilizado para o pó de ovo, açúcar em pó, leite em pó, pó de cacau, manteiga de cacau, pó de plantas, café instantneo, pó de sopa, etc.

3Quando o cristal de sílica é perfeito, é cristal; o gel de sílica após a desidrataço é ágata; quando o gro de sílica é inferior a alguns mícrons, é composto de calcedônia, chert e quartzita secundária.


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Perguntas frequentes:

P: Qual é a marca deSiO2 monocristalino?

A: O nome da marcaSiO2 monocristalinoé ZMSH.


Q: O que é a certificaço deO SiO2 monocristalino?

A: A certificaço deSiO2 monocristalinoé ROHS.


P: Onde é o local de origem deSiO2 monocristalino?

A: O local de origemSiO2 monocristalinoé a CHINA.


Q: Qual é o MOQ deSiO2 monocristal por vez?

A: O MOQ deSiO2 monocristalinoSo 25 peças de cada vez.


China 4' 5' SiO2 Single Crystal IC Chips Método CZ 500um 1mm Camada de oxidação 500nm 2μM supplier

4' 5' SiO2 Single Crystal IC Chips Método CZ 500um 1mm Camada de oxidação 500nm 2μM

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