Magnétron do metal do ouro da lata que engasga a máquina de revestimento, serviço de chapeamento do ouro do ZRN

 
 
Ouro TiN Metal Máquina de revestimento de pulverizaço por magnétono de frequência média / sistema de pulverizaço por pulverizaço MF
 
 
 
O revestimento de vácuo por pulverizaço de magneto é um tipo de método de tratamento de superfície de PVD Ion Plating. Pode ser usado para a produço de filmes condutores ou no condutores, em muitos tipos de materiais: metais,vidroO conceito de deposiço por pulverizaço: o material de revestimento (alvo, também denominado cátodo) e as peças de trabalho (substratos,também chamados de nodo) so colocados na cmara de vácuo e a presso é reduzidaA pulverizaço é iniciada colocando o alvo sob um diferencial de tenso e introduzindo gás argônio que forma íons de argônio (descarga luminosa).Os íons argônio aceleram em direço ao alvo do processo e deslocam os átomos alvoEstes átomos de pulverizaço so ento condensados no substrato e formam uma camada muito fina e de elevada uniformidade.ou acetileno em gases de pulverizaço durante o processo de revestimento.
 
Modelos de pulverizaço por magneto: pulverizaço por corrente contínua, pulverizaço por MF, pulverizaço por RF
 
O que é o MF Sputtering?
 
Em comparaço com a pulverizaço de corrente contínua e RF, a pulverizaço de média frequência tornou-se a principal técnica de pulverizaço de filme fino para produço em massa de revestimento,especialmente para a deposiço em película de revestimentos de película dielétricos e no condutores em superfícies como revestimentos ópticos, painéis solares, camadas múltiplas, filme de material composto, etc.
Ele está substituindo o pulverizaço de RF devido ao fato de operar com kHz em vez de MHz para uma taxa de deposiço muito mais rápida e também pode evitar o envenenamento do alvo durante a deposiço de filme fino composto como DC.
 
Os alvos de pulverizaço MF sempre existiram com dois conjuntos. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
 
Desempenho do sistema de pulverizaço MF
1Presso de vácuo final: superior a 5,0 × 10^-6Torr.
2Presso de vácuo de funcionamento: 1,0 × 10^-4Torr.
3. Tempo de bombeamento: de 1 atm para 1,0 × 10^-4Torr≤ 3 minutos (temperatura ambiente, cmara seca, limpa e vazia)
4Material metalizante (espuma + evaporaço por arco): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, etc.
5Modelo de funcionamento: automático completo/semiautomático/manual
 
Estrutura do sistema de pulverizaço MF
A máquina de revestimento a vácuo contém o sistema completado chave listado abaixo:
1Cmara de vácuo
2. Sistema de bombeamento de vácuo (pacote de bombeamento de apoio)
3Sistema de bombeamento a vácuo elevado (bomba molecular de suspenso magnética)
4Sistema elétrico de controlo e operaço
5Sistema de instalações auxiliares (subsistema)
6Sistema de deposiço: catodo de pulverizaço MF, fonte de alimentaço MF, fonte de iões de alimentaço Bias para opcional
 
Especificações do sistema de pulverizaço de MF RTSP1212-MF
 

 
 
 
 
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Eletrónica de consumo, automóveis, energia renovável, arquitetura, nanotecnologia e materiais biomédicos.

Modelo RTAS, equipamento de série integrado de arco e pulverizaço pode produzir películas pretas e de bronze altamente refletoras especificamente para revestimentos decorativos de alta qualidade.

RTSP1200-FCEV, é um sistema de pulverizaço com processo PECVD para depositar uma película fina em módulos de energia de célula de combustível de hidrogênio.Veículos a célula de combustível é a mais recente tecnologia para a próxima geraço de carros ecológicosA principal vantagem e o progresso tecnológico em comparaço com as baterias comumente utilizadas, como a célula seca, é a necessidade de passar por um processo de recarga recorrente.Mas os módulos de energia de célula de combustível de hidrogénio só exigem reaço de hidrogénio e oxigénio para gerar energia para conduço.

RTSP1200-DPC,Este sistema de revestimento é usado exclusivamente para o processo de substratos cermicos DPC (Direct Plating Copper). Os substratos cermicos DPC so amplamente utilizados em várias aplicações:Por exemplo, em LED de alto brilho para aumentar a longevidade devido ao seu alto desempenho de radiaço térmica, equipamento de semicondutores, em comunicaço sem fio de microondas, eletrônica militar, vários substratos de sensores, aeroespacial, transporte ferroviário, energia elétrica e muito mais.

RT-CsI950, A planta de revestimento por evaporaço é aplicada deposiço de filme CsI para dispositivos de imagem de raios-X. É uma técnica avançada para evaporar o CsI na tela para criar imagens de alta qualidade.O desempenho de alta resoluço permite que esta aplicaço seja extremamente eficiente e perturbadora no instrumento médico, indústria da energia nuclear, controlo e inspecço de segurança, matérias de física de alta energia e muito mais.

A Shanghai Royal Technology também projetou e desenvolveu com sucesso o sistema de metalizaço de vácuo de alumínio de grande tamanho de modelo de cubo e cilindro, que é usado para revestimento de placas de logotipo automotivo.

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