Sistema de deposição de vácuo elevado -RT-CsI950

Number modelo:RT950-CsI
Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1 conjunto
Condições de pagamento:L/C,T/T
Capacidade da fonte:10 conjuntos por mês
Tempo de entrega:10 a 12 semanas
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Endereço: ZONA INDUSTRIAL DA ESTRADA DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
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O sistema de deposiço de alto vácuo CsI foi concebido exclusivamente para a metalizaço de CsI em ecrs de cintilaço num ambiente de vácuo extremamente elevado.

Os scintilladores CsI variam de espessura de 200 a 600 μm, com uma elevada uniformidade de espessura e desempenho de brilho.

Características de deposiço do iodeto de césio (CsI):
b. Sistemas de transmisso de imagens de alta resoluço espacial;
Resposta rápida para obtenço de imagens mais nítidas;
Áreas de imagem de borda a borda de classe superior;
Capas de absorço óptica ou camadas de reflexo;
Baixa dose de raios-X do doente;

Aplicaço- para inspecço e controlo de segurança, educaço em física de alta energia, detecço de radiaço nuclear e imagens médicas: exame de tórax, mamografia, dentária interoral e panormica.
Substratos aplicados:Vidro TFT, chapa de fibra óptica, chapa de carbono amorfo, chapa de alumínio

Características do equipamento:

Confiabilidade:
Operaço ininterrupta 24 horas por dia, 7 dias por semana;
Inficon Film Thickness Controller para monitorizar a espessura da película em linha.
Preciso do controlo da temperatura: ±1 °C, configuraço em várias fases, registo e controlo automáticos dos dados de temperatura
Estacionamentos rotativos equipados com servomotor para alta preciso e estabilidade.


Segurança:

Bomba de vácuo elevado: Bomba molecular de suspenso magnética, com dispositivo de sopro de gás nitrogénio para evitar a exposiço do material perigoso ao ar;
Todos os eléctrodos esto equipados com mangas de protecço de segurança.

Repetitividade e Reproducibilidade:
Através de um sistema de controlo de parmetros de alta preciso,
Software e programas de controlo automático de processos,
Operaço fácil de usar.


Eficiência:
O modelo CsI-950A+ é com estrutura de rack de 2 rotações baseada no modelo CsI-950 de geraço 1.
Capacidade dupla para o substrato de tamanho máximo: 500 x 400 mm.

Especificações técnicas

Descriço

RT-CsI950

   
RTEP800

 

Cmara de deposiço (mm)

 

φ950 x H1350

φ800 x H800

Capacidade

2

1

Fontes de evaporaço

2

4

Seco e desumidade

Lmpada de iodo-volframo

Max. 300°C

Lmpada de iodo-volframo

Max. 200°C

Presso de vácuo final (Pa)

8.0×10-5Pa

5.0×10-4Pa

Controlador de espessura da película de deposiço

Controle de quartzo x 1

NO

 

Consumo de energia (KW)

Max. cerca de 50

Médio aprox. 20

Max. cerca de 20

Médio aprox. 10

Impresso (L*W*H)

3000*2150*2100 mm

1800*2300*2100 mm

Sistema de operaço e controlo

 

Norma CE

Mitsubishi PLC+ touch screen

Programa de operaço com backup

Além do equipamento RT-CsI950, também fornecemos as máquinas de pós-processamento que geram uma camada protetora na parte superior do filme CsI.

-- RTEP800, que utiliza a tecnologia de revestimento por evaporaço térmica.Por favor, entre em contato conosco para mais especificações, a Royal Technology tem a honra de lhe fornecer soluções totais de revestimento.


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Sistema de deposição de vácuo elevado -RT-CsI950

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