Máquina de deposição de pulverização por magnétono web de rolagem para rolagem (R2R)

Um sistema de pulverizaço a vácuo de rolos é um tipo de equipamento de fabrico utilizado para depositar filmes finos num substrato flexível que é continuamente alimentado de um rolo para outro.Este sistema é comumente usado em indústrias como eletrônica, óptica e embalagens para aplicações como revestimentos, células solares e eletrónica flexível.

Neste sistema, uma cmara de vácuo é usada para depositar filmes finos sobre uma teia móvel de material.A pulverizaço é um processo em que átomos ou moléculas so ejetados de um material alvo sólido devido ao bombardeio do alvo por partículas energéticasEstes átomos ou moléculas ejetados formam ento uma película fina no substrato.

O sistema de pulverizaço de vácuo de teia de rolos normalmente inclui componentes como:

Cmara de vácuo: é aqui que o processo de pulverizaço ocorre em condições de vácuo controladas.

Sistema de manipulaço de substrato: Este sistema controla o movimento do substrato flexível através do processo de pulverizaço.

Cátodos de pulverizaço com alvos metálicos: Estes so os materiais a partir dos quais os átomos ou moléculas so pulverizados para formar o filme fino no substrato.

Fornecedores de energia: fornecem a energia necessária para o processo de pulverizaço.

Sistema de abastecimento de gás: Este sistema fornece os gases necessários para o processo de pulverizaço.

Sistema de controlo: controla os parmetros do processo, tais como taxa de deposiço, espessura do filme e uniformidade.

O sistema de pulverizaço de vácuo de teia de rolos oferece vantagens como alto rendimento, escalabilidade e capacidade de revestir grandes áreas com filmes finos.É adequado para a produço em massa de materiais de película fina em substratos flexíveis.

Em um sistema de pulverizaço a vácuo de teia de rolos, podem ser utilizados vários tipos de alvos de pulverizaço, dependendo das propriedades desejadas e das aplicações dos filmes finos a depositar.Alguns tipos comuns de alvos de pulverizaço incluem::

Metais: so feitos de metais puros ou ligas metálicas e so comumente usados para depositar filmes finos de metal.e de aço inoxidável.

Alvos de óxido: Estes alvos so compostos de óxidos metálicos e so usados para depositar filmes finos de óxido.

Alvos de nitruro: Estes alvos so usados para depositar filmes finos de nitruro.

Alvos de silicetos: Estes alvos so compostos de silicetos metálicos e so usados para depositar filmes finos de silicetos.

Alvos de sulfeto: Estes alvos so usados para depositar filmes finos de sulfeto.

Objetivos compostos: Estes alvos so compostos por vários materiais e so utilizados para depositar filmes finos com propriedades específicas.um alvo pode ser uma combinaço de materiais metálicos e cermicos para composições de filme únicas.

Alvos de liga: Estes alvos so feitos de composições de liga e so usados para depositar filmes finos de liga com propriedades específicas.e metas de liga de cobalto-cromo (CoCr).

A escolha do alvo de pulverizaço depende de fatores como a composiço do filme desejada, espessura, estrutura e propriedades.Utilizando diferentes tipos de alvos de pulverizaço no sistema de pulverizaço a vácuo da teia de rolos, uma ampla gama de materiais de película fina pode ser depositada para várias aplicações em indústrias como eletrônica, óptica, energia e muito mais.

Aplicações:

 Papel eletrónico, circuitos flexíveis, fotovoltaicos, tiras médicas, RFID (identificaço por radiofrequência) e filme Low-E, revestimentos de filme fino ITO

Os processos de deposiço por pulverizaço de teia de rolos (R2R) oferecem um método versátil e escalável para depositar filmes finos em substratos flexíveis de forma contínua.

Esta tecnologia encontra uma ampla gama de aplicações em várias indústrias devido sua capacidade de revestir grandes áreas a altas velocidades com filmes finos de diferentes materiais.

Algumas aplicações comuns da deposiço de sputtering R2R incluem:

Eletrônica flexível: o sputtering web R2R é amplamente usado na produço de dispositivos eletrônicos flexíveis, como telas flexíveis, tags RFID, cartões inteligentes e eletrônicos vestíveis.Permite a deposiço de transistores de película fina, elétrodos condutores e camadas de barreira em substratos flexíveis.

Células solares: as células solares de filme fino beneficiam do sputtering de teia R2R para depositar camadas de semicondutores ou absorvedores, como silício amorfo, telureto de cádmio e

Esta tecnologia permite a fabricaço de dispositivos fotovoltaicos de película fina de elevado rendimento e custo-benefício.

Filmes de barreira: o sputtering R2R é utilizado para depositar filmes de barreira com excelentes propriedades de barreira de gás em substratos flexíveis para proteger materiais sensíveis da umidade, oxigénio,e outros fatores ambientaisEstes filmes de barreira encontram aplicações em embalagens, eletrônicos e exibições.

Revestimentos decorativos: A deposiço por pulverizaço R2R é utilizada na produço de revestimentos decorativos em substratos flexíveis para aplicações em acabamentos automotivos, eletrônicos de consumo,e vidro arquitectónicoMateriais como camadas metálicas, revestimentos de óxido e revestimentos de interferência multicamadas podem ser aplicados usando esta técnica.

Sensores flexíveis: o sputtering web R2R permite a deposiço de elementos sensores de filme fino em substratos flexíveis para aplicações em sensores vestíveis, dispositivos de saúde e aplicações IoT.Sensores, tais como sensores de temperatura, sensores de umidade e sensores de gases podem ser fabricados utilizando esta tecnologia.

Filmes ópticos: o pulverizaço R2R é utilizado para depositar revestimentos ópticos em substratos flexíveis para aplicações em revestimentos antirreflexo, revestimentos refletores, filtros ópticos,e filtros de cores utilizados em monitores, lentes e dispositivos ópticos.

Integraço de eletrônicos impressos: o sputtering web R2R pode ser integrado com processos de eletrônica impressa para criar dispositivos híbridos com componentes impressos e pulverizados.

Esta integraço permite a produço de dispositivos eletrónicos eficientes em termos de custos e funcionais em substratos flexíveis.

Em geral, a versatilidade e a escalabilidade da tecnologia de deposiço de sputtering R2R tornam-na adequada para uma ampla gama de aplicações em indústrias como eletrónica, energia, embalagens, óptica,e sensores, quando so necessárias películas finas em substratos flexíveis.

Disposiço da máquina R2R

Distribuiço dos catodos de pulverizaço

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