Máquina de revestimento por pulverização de magnetron DC e MF Soluções de revestimento PVD preto profundo

Número de modelo:RTAS1250
Lugar de origem:Made in China
Quantidade de ordem mínima:1 conjunto
Termos do pagamento:L/C, D/A, D/P, T/T
Capacidade da fonte:2 jogos por o mês
Tempo de entrega:24 semanas
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Endereço: ZONA INDUSTRIAL DA ESTRADA DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
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Máquina de revestimento por pulverizaço de magnetron DC e MF, soluções de revestimento PVD preto profundo


Revestimento de Magnetron Sputtering


Revestimento de plasma
O magnetron sputtering é um processo de revestimento de plasma pelo qual o material de sputtering é ejetado devido ao bombardeio de íons na superfície do alvo.A cmara de vácuo da máquina de revestimento PVD é preenchida com um gás inerte, como o argônio.Ao aplicar uma alta voltagem, uma descarga de brilho é criada, resultando na aceleraço de íons para a superfície do alvo e um revestimento de plasma.Os íons de argônio ejetaro materiais pulverizados da superfície do alvo (sputtering), resultando em uma camada de revestimento pulverizada sobre os produtos na frente do alvo.
A tecnologia de magnetron sputtering é caracterizada por:

  • Um alvo resfriado a água, portanto, pouco calor de radiaço é gerado
  • Quase qualquer material alvo metálico pode ser pulverizado sem decomposiço
  • Materiais no condutores podem ser pulverizados usando radiofrequência (RF)
    ou potência de média frequência (MF)
  • Revestimentos de óxido podem ser pulverizados (sputtering reativo)
  • Excelente uniformidade de camada
  • Revestimentos pulverizados muito suaves (sem gotículas)
  • Os cátodos (de até 2 metros de comprimento) podem ser colocados em qualquer posiço, portanto, altos
    flexibilidade do projeto do equipamento de pulverizaço catódica
MODELORTAC1250-SPMF
TECNOLOGIAMF Magnetron Sputtering + Ion Plating
MATERIALAço inoxidável (S304)
TAMANHO DA CMARAΦ1250 * H1250mm
TIPO DE CMARACilindro, vertical, 1 porta
SISTEMA DE PULSAÇODesign exclusivo para deposiço de filme preto fino
MATERIAL DE DEPOSIÇOAlumínio, prata, cobre, cromo, aço inoxidável,
Níquel
FONTE DE DEPOSIÇO2 conjuntos de alvos de pulverizaço cilíndricos MF + 8 fontes de arco catódico direcionado + fonte de íons para opcional
GÁSMFC- 4 vias, Ar, N2, O2, C2H2
AO CONTROLECLP (Controlador Lógico Programável) +
SISTEMA DE BOMBASV300B - 1 conjunto (Leybold)
WAU1001 - 1 conjuntos (Leybold)
D60T- 1 conjunto (Leybold)
Bombas Moleculares Turbo: 2* F-400/3500
PRÉ-TRATAMENTOFonte de alimentaço de polarizaço: 1*36 KW
SISTEMA DE SEGURANÇANumerosos intertravamentos de segurança para proteger os operadores
RESFRIAMENTOÁgua fria
ENERGIA ELÉTRICA480V/3 fases/60HZ (compatível com EUA)
460V/3 fases/50HZ (em conformidade com a Ásia)
380V/3 fases/50HZ (em conformidade com a UE-CE)
PEGADAL3000*W3000*H2000mm
PESO TOTAL7,0T
PEGADA(L*W*H) 5000*4000*4000MM
TEMPO DE CICLO30~40 minutos (dependendo do material do substrato,
geometria do substrato e condições ambientais)
POTÊNCIA MÁX..155 KW
POTENCIA MÉDIA
CONSUMO (APROX.)
75 KW

Entre em contato conosco para obter mais especificações, a Royal Technology tem a honra de fornecer soluções totais de revestimento.


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