TaN Ta2O5 Filmes ópticos Sistema de deposição por pulverização magnética, deposição auxiliar por feixe de íons

Número do modelo:RTSP1200
Local de origem:Fabricado na China
Quantidade mínima de encomenda:1 conjunto
Condições de pagamento:L/C, T/T
Capacidade de abastecimento:10 conjuntos por mês
Tempo de entrega:8 a 12 semanas
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Endereço: ZONA INDUSTRIAL DA ESTRADA DE 819# SONGWEI (N.) SONGJIANG, SHANG HAI, CHINA 201613
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Magnetron Sputtering é amplamente utilizado para depositar metais refratários como tntalo, titnio, tungstênio,Nióbio, que exigiria temperaturas de deposiço muito elevadas, e metais preciosos: Ouro e Prata e que também é utilizado para a deposiço de metais com baixos pontos de fuso como cobre, alumínio, níquel, cromo, etc.

O tntalo é mais utilizado na electrónicaIndústriacomo revestimento protetor devido sua boa resistência eroso.

Aplicações da película fina de tntalo pulverizado:
1- indústria da microelectrónica, uma vez que as películas podem ser pulverizadas reactivamente e, assim, a resistividade e o coeficiente de temperatura da resistência podem ser controlados;

  1. Instrumentos médicos como implantes corporais pela sua elevada propriedade de biocompatibilidade;
  2. Revestimentos de peças resistentes corroso, tais como termo-poços, corpos de válvulas e elementos de fixaço;
  3. O tntalo pulverizado pode também ser utilizado como uma barreira eficaz de resistência corroso se o revestimento for contínuo, defeituoso e aderente ao substrato..

5Indústria de semicondutores, micro-chips eletrónicos

 

Vantagens técnicas

  1. Aplica-se um carrinho normalizado que permite o carregamento/descarregamento fácil e seguro dos suportes de substrato e das peças de trabalho dentro/fora da cmara de deposiço
  2. O sistema está bloqueado de segurança para evitar uma operaço incorreta ou práticas inseguras
  3. Os aquecedores de substrato so fornecidos que montados no centro da cmara, PID controlado termocouple para alta preciso, para melhorar a adeso do filme de condensaço
  4. Configurações de bombas de vácuo fortes com bomba molecular de suspenso magnética através de uma válvula de porta conectada cmara; apoiada com a bomba de raízes da Leybold e uma bomba de veleira rotativa de dois estágios, bomba mecnica.
  5. A fonte de plasma ionizado de alta energia é aplicada com este sistema para garantir a uniformidade e a densidade.


 

Sistema padronizado de deposiço por pulverizaço de Tntalo da Royal Technology: RTSP1000

Configurações principais
ModeloRTSP1200
TECNOLOGIA

Pulso de pulso de magnetron DC

Revestimento por arco catódico (opcional, determinado por processo de revestimento), fonte de feixe iônico

Material da cmaraAço inoxidável (S304)
Tamanho da cmaraΦ1200*1300 mm (H)
Tipo de cmaraForma D, cmara cilíndrica
RECK DE ROTAÇO e SISTEMA JIGSistema de conduço por satélite ou sistema de conduço central
Fontes de energia

Fornecimento de energia de pulverizaço em corrente contínua: 2 a 4 conjuntos
Bias Fornecimento de energia: 1 conjunto

Fonte de íons: 1 conjunto

MATERIAL DE DEPÓSITOTa, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu, etc.
Fonte de depósitoCátodos de pulverizaço plana + cátodos de arco circular
ControlePLC ((Controller lógico programável) + IPC
(modelos de operaço manual + automática + semi-automática)
Sistema de bombagemBomba de válvula giratória: SV300B ¢ 1 conjunto (Leybold)
Bomba de raízes: WAU1001 1 conjunto (Leybold)
Bomba de retenço: D60C ¢ 1 conjunto (Leybold)
Bomba molecular de suspenso magnética:
MAG2200 2 sest (Leybold)
Controlador de fluxo de massa de gás2 canais: Ar e N2
Método de vácuoInficon ou Leybold
Sistema de segurançaNumerosos bloqueios de segurança para proteger os operadores e os equipamentos
AquecimentoCaldeiras: 20 kW. Temperatura máxima: 450°C
FrigorificaçoFrigorífico industrial (água fria)
Power Max.100 kW (aprox.)
Consumo médio de energia45 KW (aprox.)
Peso brutoT (aproximadamente)
PRENTA DE PÉ(L*W*H) 4000*4000*3600 MM
Energia elétrica

Linha AC 380V/3 fases/50HZ / 5

 

 

Contacte-nos para mais aplicações e especificações.

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