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2inch /3inch 4inch /5inch/6inch C-axis/a axis/ r axis/ m-axis 6"/6inch dia150mm C-plane Sapphire SSP/DSP wafers with 650um/1000um Thickness2inch 4inch customized A axis sapphire wafers for epitaxial growth 430um SSP DSP
Devido rede menos desajustada e s propriedades químicas e físicas estáveis, a wafer de safira ((Al2O3) é o substrato popular para nitritos III-V, supercondutores e epi-filmes magnéticos.Eles so amplamente utilizados em GaN e crescimento epitaxial de filme fino, silício sobre safira, mercado de LED e indústria óptica.
A ZMSH é uma fornecedora profissional de wafers de safira que fabrica wafers de safira polida de cristal único de alta pureza de 99,999% para epitaxia.E os nossos substratos de safira (Al2O3) apresentam um excelente acabamento de superfície, que é o parmetro LED chave.
Se você está procurando por fornecedores confiáveis de wafer de safira, por favor sinta-se vontade para entrar em contato conosco.
As bolinhas de safira têm uma constante dielétrica uniforme e uma característica altamente isolante, por isso so geralmente usadas para aplicações microeletrônicas híbridas.Esta orientaço também pode ser usada para o crescimento de supercondutores de alta.
Por exemplo, TlBaCaCuO (TbBaCaCuO), Tl-2212, a película fina supercondutora hetero-epitaxial é cultivada em um substrato composto de óxido de cério de safira (CeO2).A disponibilidade de acabamentos de superfície de nível Angstrom permite interligações de linha fina de módulos híbridos.
Ponto | 2 polegadas de plano A ((11-20) 430μm Wafers de safira | |
Materiais cristalinos | 99,999%, Alta pureza, Al2O3 monocristalino | |
Grau | Prime, Epi-Ready | |
Orientaço da superfície | A-plano ((11-20) | |
Dimetro | 500,8 mm +/- 0,1 mm | |
Espessura | 430 μm +/- 25 μm | |
Orientaço plana primária | C-plano ((0001) +/- 0,2° | |
Duraço plana primária | 16.0 mm +/- 1,0 mm | |
Polido de lado único | Superfície frontal | Epi-polido, Ra < 0,5 nm (por AFM) |
(SSP) | Superfície traseira | Moagem fina, Ra = 0,8 μm a 1,2 μm |
Lustrado de dois lados | Superfície frontal | Epi-polido, Ra < 0,5 nm (por AFM) |
(DSP) | Superfície traseira | Epi-polido, Ra < 0,5 nm (por AFM) |
TTV | < 10 μm | |
Arco-íris | < 10 μm | |
WARP | < 10 μm | |
Limpeza / Embalagem | Classe 100 Limpeza de salas limpas e embalagens a vácuo, | |
25 peças numa embalagem de cassete ou numa embalagem de peça única. |
Nota: Podem ser fornecidas placas e substratos de safira personalizados de qualquer orientaço e espessura.
2 polegadas. | DSP C-AXIS 0,1 mm/0,175 mm/0,2 mm/0,3 mm/0,4 mm/0,5 mm/1,0 mmt Eixo C do SSP 0,2/0,43 mm (DSP e SSP) Orifícios de safira de plano A (1120) Wafer de safira de plano R (1102) Wafer de safira de plano M (1010)
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3 polegadas | DSP/SSP eixo C 0,43 mm/0,5 mm
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4 polegadas | dsp eixo c 0,4 mm/ 0,5 mm/ 1,0 mm Ssp eixo c 0,5 mm/0,65 mm/1,0 mmt
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6 polegadas. | Ssp eixo c 1,0 mm/1,3 mm
dsp eixo c 0,65 mm/0,8 mm/1,0 mmt
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