8 micro diodo emissor de luz da polegada AlGaN/GaN Gallium Nitride Wafer For

Number modelo:si Epiwafer de 8inch 6inch AlGaN/GaN HEMT-em-hora
Lugar de origem:CHINA
Quantidade de ordem mínima:1pcs
Termos do pagamento:T/T
Capacidade da fonte:50PCS pelo mês
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Detalhes do produto

 

8 polegadas 6 polegadas AlGaN/GaN HEMT-on-HR Si Epiwafer GaN-on-Si Epiwafer para Micro-LED para aplicaço de RF

 

Características da wafer GaN

  1. III-nitreto ((GaN,AlN,InN)

O Nitruro de Gállio é um tipo de semicondutor composto de grande espaço.

Um substrato monocristalino de alta qualidade, fabricado com o método HVPE original e tecnologia de processamento de wafer, que foi originalmente desenvolvido há mais de 10 anos na China.As características so cristalinas.Os substratos de GaN so utilizados para muitos tipos de aplicações, para LED branco e LD ((violeta, azul e verde).O desenvolvimento avançou para aplicações de dispositivos electrónicos de potência e alta frequência.

 

A largura de banda proibida (emisso e absorço de luz) abrange a luz ultravioleta, a luz visível e a infravermelha.

Aplicaço

O GaN pode ser utilizado em muitas áreas, como tela LED, detecço e imagem de alta energia,
Display de projecço a laser, dispositivo de alimentaço, etc.

  • Display de projecço a laser, dispositivo de alimentaço, etc. Armazenamento de dados
  • Iluminaço energéticamente eficiente
  • Projecções a laser Dispositivos eletrônicos de alta eficiência
  • Dispositivos de microondas de alta frequência Detecço e imaginaço de alta energia
  • Novas energias solor tecnologia de hidrogénio Ambiente Detecço e medicina biológica
  • Faixa de terahertz da fonte luminosa

Especificaço do produto

NúmerosValores/Ámbito de aplicaço
SubstratoSim
Dimetro da bolacha4 ¢/ 6 ¢ / 8- No.
Espessura da camada epi4-5μm
Arco de wafer< 30μm, típico
Morfologia da superfícieRMS < 0,5 nm em 5 × 5 μm²
BarreiraAlX- No.1-XN, 0
Camada de tampaIn-situSiNou GaN (modo D); p-GaN (modo E)
Densidade 2DEG> 9E12/cm2(20 nm Al0.25GaN)
Mobilidade dos elétrons> 1800 cm2/Vs(20 nm Al0.25GaN)

Especificaço do produto

NúmerosValores/Ámbito de aplicaço
SubstratoHR_Si/SiC
Dimetro da bolacha4 ¢/6 ¢SiC, 4 ¢/ 6 ¢/ 8HR_Si
Epi- espessura da camada2 a 3μm
Arco de wafer< 30μm, típico
Morfologia da superfícieRMS < 0,5 nm em 5 × 5 μm²
BarreiraAlGaNouAlNouInAlN
Camada de tampaIn-situSiNou GaN

 

NúmerosGaN-on-SiGaN-on-Sapphire
4/ 6/ 8- No.2/ 4/ 6
Espessura da camada epi< 4μm< 7μm
Média Dominante/ PicoComprimento de onda400-420nm, 440-460nm,510-530 nm270-280nm, 440-460nm,510-530 nm
FWHM

< 20 nm para azul/próximo UV

< 40 nm para o verde

< 15 nm para UVC

< 25 nm para azul

< 40 nm para o verde

Arco de wafer< 50μm< 180μm

 

 

Sobre a nossa fábrica OEM

 

A nossa viso da empresa Factroy
forneceremos substrato de GaN de alta qualidade e tecnologia de aplicaço para a indústria com a nossa fábrica.
O material GaN de alta qualidade é o fator de restriço para a aplicaço de nitritos III, por exemplo, a longa vida útil
e LDs de alta estabilidade, dispositivos de micro-ondas de alta potência e alta confiabilidade,
e LEDs de alta eficiência e poupança de energia.

-FAQ
P: O que pode fornecer logística e custo?
(1) Aceitamos DHL, Fedex, TNT, UPS, EMS, SF e etc.
(2) Se você tiver seu próprio número expresso, é ótimo.
Se no, podemos ajudá-lo a entregar.

P: Qual é o prazo de entrega?
(1) Para os produtos normalizados, tais como as bolinhas de 0,33 mm de 2 polegadas.
Para o inventário: a entrega é de 5 dias úteis após a encomenda.
Para produtos personalizados: a entrega é de 2 a 4 semanas úteis após a encomenda.

P: Como pagar?
100% T/T, Paypal, West Union, MoneyGram, pagamento seguro e garantia comercial.

Q: Qual é o MOQ?
(1) Para o inventário, o MOQ é de 5pcs.
(2) Para produtos personalizados, o MOQ é de 5pcs-10pcs.
Depende da quantidade e da técnica.

P: Tem relatório de inspecço do material?
Podemos fornecer relatórios ROHS e alcançar relatórios para os nossos produtos.

 

 

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8 micro diodo emissor de luz da polegada AlGaN/GaN Gallium Nitride Wafer For

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