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o N-tipo de 6inch 8inch 2inch 1inch FZ CZ lustrou a bolacha do óxido de silicone das bolachas da bolacha de silicone DSP SiO2
Únicas e de Czochralski bolachas dobro-lustradas da polegada 1-12
lustrada da Alto-pureza da bolacha de silicone (11N)
Tamanhos 1" 2" 3" 4" 5" 6" 8" 12" e bolachas especiais do tamanho e
da especificaço
Único disco de lustro de superfície, disco de lustro dobro, disco
abrasivo, disco da corroso, cortando o disco
Orientaço de cristal <100> <111> <110>
<211> <511> e bolachas de silicone com vários
fora-ngulos
Espessura 100um 200um 300um 400um 500um 1mm 5mm e outras
espessuras, tolerncia +-10um da espessura,
Tipo< 10um="" or="" according="" to="" customer=""
requirements=""> N-tipo da condutibilidade de TTV, P-tipo,
undope (resistência intrinsecamente alta)
Único método de cristal Czochralski (CZ), derretimento de zona
(FZ), NTD (foto média)
A Re-lubrificaço da resistividade pode alcançar <0>
derretimento de zona intrínseco: > 1000 ohm.cm, >3000 ohm.cm,
>5000 ohm.cm, >8000 ohm.cm, >10000 ohm.cm
TIR do nivelamento dos parmetros de processo: ≤3μm, Warpage TTV:
≤10μm,
Curva/Warp≤40μm, roughness≤0.5nm, tamanho de partícula <>
0.3μ)
Empacotamento de vácuo Ultra-limpo de embalagem da folha de
alumínio do método 10 partes, 25 partes
Processar a personalizaço a época de processamento do modelo, da
orientaço de cristal, da espessura, da resistividade, etc. é
levemente diferente de acordo com especificações e parmetros
diferentes.
Introduço da aplicaço é usado para os portadores tais como
processos, revestimentos da amostra da radiaço de synchrotron de
PVD/CVD como carcaças, magnétron engasgando as amostras do
crescimento, XRD, SEM,
Força atômica, espectroscopia infravermelha, espectroscopia da
fluorescência e outras carcaças do teste da análise, carcaças do
crescimento da epitaxia de feixe molecular, análise de raio X de
semicondutores cristalinos
ZMSH é fábrica da força do semicondutor, especial para testes do equipamento de laboratório da pesquisa científica, bolachas lustradas 2-3-4-5-6-8 polegadas do óxido de silicone, bolachas revestidas de cristal da carcaça da pesquisa científica do microscópio de elétron do silicone da alto-pureza únicas
Consulte por favor o proprietário antes de colocar uma ordem para especificações específicas, e sinta-o por favor livre fazer todas as perguntas sobre bolachas de silicone.
Todos os laboratórios de pesquisa científica e empresas do semicondutor so bem-vindos pedir, e as ordens do OEM podem ser recebidas, e as bolachas de silicone podem ser importadas.
Indicaço especial: Todas as bolachas de silicone de nossa empresa
so processadas do único silicone de cristal selecionado do
polysilicon nativo, bolachas de silicone recicladas no baratas ou
usaram bolachas de silicone re-lustradas! A cotaço inclui uma
fatura do ICM de 16%.
Nossa lista do inventário para bolachas de silicone
(categoria de IC, método CZ da traço)
Bolacha de silicone lustrada lateral da traço reta única
1 polegada (25.4mm) único-tomou partido a espessura lustrada 500um
da bolacha de Czochralski
2 polegadas (50.8mm) único-tomaram partido a espessura lustrada
280um da bolacha de Czochralski
3 polegadas (76.2mm) único-tomaram partido a espessura lustrada
380um da bolacha de Czochralski
4 polegadas (100mm) único-tomaram partido bolacha de silicone
lustrada da reto-traço de uma espessura de 500um
5 polegadas (125mm) único-tomaram partido a espessura lustrada
625um da bolacha de Czochralski
6 polegadas (150mm) único-tomaram partido a espessura lustrada
675um da bolacha de Czochralski
Bolachas de silicone lustradas frente e verso de Czochralski
espessura lustrada frente e verso 500um da bolacha de um
Czochralski de 1 polegada (25.4mm)
2 (50.8mm) polegadas de espessura lustrada frente e verso 280um da
bolacha de Czochralski
3 (76.2mm) polegadas de espessura lustrada frente e verso 380um da
bolacha de Czochralski
4 (100mm) polegadas de espessura lustrada frente e verso 500um da
bolacha de Czochralski
5 (125mm) polegadas de espessura lustrada frente e verso 625um da
bolacha de Czochralski
6 (150mm) polegadas de espessura lustrada frente e verso 675um da
bolacha de Czochralski
Reto-puxado único-tomaram partido as bolachas de silicone
ultra-finas lustradas
1 polegada (25.4mm) único-tomou partido a espessura ultra-fina
lustrada 100um da bolacha de silicone da reto-traço
2 (50.8mm) polegadas de espessura ultra-fina lustrada único-lado
100um da bolacha de silicone da reto-traço
3 (76.2mm) polegadas de espessura ultra-fina lustrada único-lado
100um da bolacha de silicone da reto-traço
4 polegadas (100mm) único-tomaram partido bolacha de silicone
ultra-fina lustrada da reto-traço de uma espessura de 100um
Bolachas de silicone ultra-finas lustradas frente e verso de
Czochralski
espessura ultra-fina lustrada frente e verso 100um da bolacha de um
Czochralski de 1 polegada (25.4mm)
2 (50.8mm) polegadas de espessura ultra-fina lustrada frente e
verso 100um da bolacha de Czochralski
3 (76.2mm) polegadas de espessura ultra-fina lustrada frente e
verso 100um da bolacha de Czochralski
4 (100mm) polegadas de espessura ultra-fina lustrada frente e verso
100um da bolacha de Czochralski
Bolacha de silicone (categoria de IC, derretimento de zona FZ)
Bolacha de silicone lustrada único-lado do derretimento de zona
1 polegada (25.4mm) fundiu a espessura 500um da bolacha de silicone
na área de lustro único-tomada partido
2 polegadas (50.8mm) fundiram a espessura 280um da bolacha de
silicone na área de lustro do único-lado
3-inch (76.2mm) fundiu a espessura 380um da bolacha de silicone na
área de lustro do único-lado
4 polegadas (100mm) fundiram a espessura 500um da bolacha de
silicone na área de lustro do único-lado
Bolachas de silicone lustradas frente e verso do derretimento de
zona
1 polegada (25.4mm) fundiu a espessura 500um da bolacha de silicone
em área de lustro frente e verso
2 polegadas (50.8mm) fundiram a espessura 280um da bolacha de
silicone em área de lustro frente e verso
3 polegadas (76.2mm) fundiram a espessura 380um da bolacha de
silicone em área de lustro frente e verso
4 polegadas (100mm) fundiram a espessura 500um da bolacha de
silicone em área de lustro frente e verso
Bolacha de silicone ultra-fina lustrada único-lado do derretimento
de zona
1 polegada (25.4mm) único-tomou partido a espessura ultra-fina de
lustro 100um da bolacha de silicone do derretimento de zona
2 polegadas (50.8mm) único-tomaram partido a espessura ultra-fina
de lustro 100um da bolacha de silicone do derretimento de zona
3 polegadas (76.2mm) único-tomaram partido a espessura ultra-fina
de lustro 100um da bolacha de silicone do derretimento de zona
4 polegadas (100mm) único-tomaram partido a espessura ultra-fina de
lustro 100um da bolacha de silicone do derretimento de zona
Bolachas de silicone ultra-finas lustradas frente e verso do
derretimento de zona
uma área de lustro frente e verso de 1 polegada (25.4mm) que
derrete a espessura ultra-fina 100um da bolacha de silicone
2 polegadas (50.8mm) de área de lustro frente e verso que derrete a
espessura ultra-fina 100um da bolacha de silicone
3 polegadas (76.2mm) de área de lustro frente e verso que derrete a
espessura ultra-fina 100um da bolacha de silicone
4 polegadas (100mm) de área de lustro frente e verso que derrete a
espessura ultra-fina 100um da bolacha de silicone
Parmetros do produto. para bolachas do si 8inch
Tamanho do produto. 8-inch único-tomou partido bolacha de
silicone lustrada
métodos de produço. Czochralski (CZ)
Dimetro e tolerncia milímetro 200±0.3mm
Modelo/lubrificando o tipo. Tipo de N (fósforo, arsênico)
tipo de P (o boro lubrificou)
orientaço de cristal.<111><100><110>
Resistividade. 0.001-50 (ohm-cm) (as escalas
diferentes da resistividade podem ser personalizadas de acordo com
exigências de cliente)
TIR do nivelamento.<3um> Ra da aspereza<0> que
embala 25 partes de empacotamento de vácuo nivelado da dupla
camada do quarto desinfetado do pacote 100
Usado para os portadores da amostra da radiaço de synchrotron tais
como processos, revestimento de PVD/CVD como a carcaça, magnétron
engasgando amostras do crescimento, XRD, SEM, força atômica,
espectroscopia infravermelha, espectroscopia da fluorescência e
outras carcaças da análise e do teste, carcaças do crescimento da
epitaxia de feixe molecular, análise de raio X Crystal
Semiconductor Lithography
A informaço pedindo deve incluir:
1. resistividade
2. tamanho: 2", 3", 4", 5", outros tamanhos podem ser
personalizados
3. espessura
4. lustro unilateral, lustro frente e verso, nenhum lustro
5. categoria: Categoria mecnica, categoria do teste, categoria
principal (filme positivo)
6. tipo da condutibilidade: Tipo de P, tipo de N
7. orientaço de cristal
7. lubrificando o tipo: boro-lubrificado, fósforo-lubrificado,
arsênico-lubrificado, gálio-lubrificado, antimônio-lubrificado,
undoped
8. TTV, CURVAM-SE (o valor normal é <10um>