6H-N Semi-isolação SiC Substarte / Wafer Para MOSFETs、JFETs BJTs Alta Resistividade Larga Bandgap

Número do modelo:4H Substrato/wafer de SiC semi-isolante
Local de origem:China
Quantidade mínima de encomenda:1
Condições de pagamento:T/T
Tempo de entrega:2 a 4 semanas
Grau:Grau de Produção Grau de Pesquisa Grau Dummy Grau
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6H-N Substrato/wafer de SiC semi-isolante para MOSFETs, JFETs, BJTs, banda larga de alta resistividade

Resumo do substrato/wafer de SiC semisolador

Os substratos/wafers de carburo de silício (SiC) semi-isolantes surgiram como materiais cruciais no domínio dos dispositivos eletrónicos avançados.Alta condutividade térmicaEste resumo fornece uma viso geral das propriedades e aplicações dos substratos/wafers de SiC semi-isolantes.Discuta o seu comportamento semi-isolador, que inibe a livre circulaço de elétrons, melhorando assim o desempenho e a estabilidade dos dispositivos electrónicos.A banda larga de SiC permite altas velocidades de deriva de elétrons e saturaçoAlém disso, a excelente condutividade térmica do SiC assegura uma dissipaço de calor eficiente,que o tornam adequado para utilizaço em ambientes operativos adversosA estabilidade química e a dureza mecnica do SiC aumentam ainda mais a sua fiabilidade e durabilidade em várias aplicações.Substratos/wafers de SiC semi-isolantes oferecem uma soluço convincente para o desenvolvimento de dispositivos eletrónicos de próxima geraço com desempenho e fiabilidade melhorados.

Semi-isolaço do substrato/wafer de SiC

Diagrama de dados do substrato/wafer de SiC semi-isolante (parcialmente)

Os principais parmetros de desempenho
Nome do produto
Substrato de carburo de silício, wafer de carburo de silício, wafer de SiC, substrato de SiC
Método de crescimento
MOCVD
Estrutura cristalina
6H, 4H
Parmetros da malha
6H ((a=3,073 Å c=15,117 Å),
4H ((a=3,076 Å c=10,053 Å)
Sequência de empilhamento
6H: ABCACB,
4H: ABCB
Grau
Grau de produço, grau de investigaço, grau de simulaço
Tipo de condutividade
Tipo N ou semi-isolante
Fenda de banda
3.23 eV
Dureza
9.2 (Mohs)
Conductividade térmica @300K
3.2~4.9 W/cm.K
Constantes dielétricas
e(11)=e(22)=9.66 e(33)=10.33
Resistividade
4H-SiC-N: 0,015 a 0,028 Ω·cm,
6H-SiC-N: 0,02 a 0,1 Ω·cm,
4H/6H-SiC-SI: > 1E7 Ω·cm
Embalagem
Saco limpo de classe 100, sala limpa de classe 1000

 

Especificaço padro
Nome do produtoOrientaçoTamanho normalEspessuraPoluiço 
Substrato de 6H-SiC
Substrato de 4H-SiC
<0001>
<0001> 4° de desvio para <11-20>
< 11-20>
< 10 a 10>
Outros aparelhos de televiso
10x10 mm
10x5 mm
5x5 mm
20x20 mm
φ2" x 0,35 mm
φ3" x 0,35 mm
φ4" x 0,35 mm
φ4" x 0,5 mm
φ6" x 0,35 mm
Ou outros.
0.1 mm
0.2 mm
0.5 mm
1.0 mm
2.0 mm
Ou outros.
Boa terra
Polida de lado único
Polido de duas faces

Resistência corroso:
Inquérito OLinha

 

Aplicações essenciais:

Os substratos/wafers de carburo de silício (SiC) semi-isolantes encontram diversas aplicações em vários dispositivos eletrônicos de alto desempenho.

  1. Eletrónica de Potência:Os substratos de SiC semi-isolantes so amplamente utilizados no fabrico de dispositivos de potência, como os transistores de efeito de campo de óxido metálico-semicondutores (MOSFETs),Transistores de efeito de campo de junço (JFET), e Bipolar Junction Transistors (BJTs). O amplo intervalo de banda do SiC permite que esses dispositivos operem a temperaturas e tensões mais elevadas,Resultando em melhoria da eficiência e reduço das perdas nos sistemas de converso de energia para aplicações como veículos elétricos, energias renováveis e fontes de alimentaço industrial.

  2. Dispositivos de radiofrequência (RF):As placas de SiC so utilizadas em dispositivos de RF como amplificadores de potência de microondas e switches de RF. A alta mobilidade eletrônica e velocidade de saturaço do SiC permitem o desenvolvimento de dispositivos de alta frequência,Dispositivos RF de alta potência para aplicações como comunicaço sem fios, sistemas de radar e comunicações por satélite.

  3. Optoeletrónica:Os substratos de SiC semi-isolantes so utilizados na fabricaço de fotodetectores ultravioleta (UV) e diodos emissores de luz (LED).A sensibilidade do SiC luz UV torna-o adequado para aplicações de detecço UV em áreas como detecço de chama, esterilizaço UV e monitorizaço ambiental.

  4. Eletrónica de alta temperatura:Os dispositivos de SiC operam de forma confiável a temperaturas elevadas, tornando-os adequados para aplicações de alta temperatura, como aeroespacial, automotivo e perfuraço de poços.Os substratos de SiC so utilizados para fabricar sensores, actuadores e sistemas de controlo que possam suportar condições de funcionamento adversas.

  5. Fotônica:Os substratos de SiC so utilizados no desenvolvimento de dispositivos fotônicos, como switches ópticos, moduladores e guias de onda.O amplo espaço de banda do SiC e a sua elevada condutividade térmica permitem a fabricaço de, dispositivos fotónicos de alta velocidade para aplicações em telecomunicações, sensores e computaço óptica.

  6. Aplicações de alta frequência e alta potência:Os substratos de SiC so utilizados na produço de dispositivos de alta frequência e alta potência, como diodos Schottky, tiristores e transistores de alta mobilidade eletrônica (HEMT).Estes dispositivos encontram aplicações em sistemas de radar, infra-estruturas de comunicaço sem fios e aceleradores de partículas.

Em resumo, os substratos/wafers de SiC semi-isolantes desempenham um papel crucial em várias aplicações eletrónicas, oferecendo um desempenho superior, fiabilidade,e eficiência em comparaço com os materiais semicondutores tradicionaisA sua versatilidade faz com que sejam a escolha preferida para sistemas electrónicos de próxima geraço em vários sectores.

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