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4H N Tipo Semi Tipo Wafer SiC 4 polegadas DSP Produço Pesquisa de calibre Dummy Personalizaço
A bolacha de carburo de silício é utilizada principalmente na produço de diodos Schottky, transistores de efeito de campo de óxido metálico semicondutores, transistores de efeito de campo de junço, transistores de junço bipolar,tiristoresO Wafer de Carbono de Silício possui alta/baixa resistividade, garantindo o desempenho que você precisa,independentemente dos requisitos da sua candidaturaQuer estejam a trabalhar com eletrónica de alta potência ou sensores de baixa potência, o nosso wafer está altura da tarefa.Ento, se você está procurando por uma óleo de carburo de silício de alta qualidade que oferece desempenho excepcional e confiabilidadeGarantimos que no ficará desapontado com a sua qualidade ou desempenho.
Grau | Zero MPDGrade | Grau de produço | Grau de simulaço | |
Dimetro | 100.0 mm +/- 0,5 mm | |||
Espessura | 4H-N | 350 um +/- 20 um | 350 um +/- 25 um | |
4H-SI | 500 um +/- 20 um | 500 um +/- 25 um | ||
Orientaço da wafer | No eixo: <0001> +/- 0,5 graus para 4H-SI | |||
Fora do eixo: 4,0 graus para <11-20> +/- 0,5 graus para 4H-N | ||||
Resistividade elétrica | 4H-N | 0.015 ~ 0.025 | 0.015 ~ 0.028 | |
(Ohm-cm) | 4H-SI | > 1E9 | > 1E5 | |
Orientaço plana primária | {10-10} +/- 5,0 graus | |||
Duraço plana primária | 32.5 mm +/- 2,0 mm | |||
Duraço plana secundária | 18.0 mm +/- 2,0 mm | |||
Orientaço plana secundária | Silício virado para cima: 90 graus CW do plano primário +/- 5,0 graus | |||
Excluso da borda | 3 mm | |||
LTV/TTV/Bow/Warp | 3um /5um /15um /30um | 10um /15um /25um /40um | ||
Superfície rugosa | Polish Ra < 1 nm na face C | |||
CMP Ra < 0,2 nm | Ra < 0,5 nm | |||
As rachaduras inspeccionadas por luz de alta intensidade | Nenhum | Nenhum | 1 permitido, 2 mm | |
Placas hexagonais inspeccionadas por luz de alta intensidade | Área acumulada ≤ 0,05% | Área acumulada ≤ 0,1 % | ||
Áreas de politipo inspeccionadas por luz de alta intensidade | Nenhum | Nenhum | Área acumulada≤3% | |
Riscos inspeccionados com luz de alta intensidade | Nenhum | Nenhum | Comprimento acumulado≤1x dimetro da bolacha | |
Fragmentaço da borda | Nenhum | Nenhum | 5 permitidos, ≤ 1 mm cada | |
Contaminaço da superfície verificada pela luz de alta intensidade | Nenhum |
1. Forte estabilidade a altas temperaturas: as wafers de carburo de
silício apresentam condutividade térmica extremamente elevada e
inércia química,permitindo-lhes manter a estabilidade em ambientes
de alta temperatura sem sofrer facilmente expanso térmica e
deformaço.
2. Alta resistência mecnica: as wafers de carburo de silício
possuem alta rigidez e dureza, permitindo-lhes resistir a altas
tensões e cargas pesadas.
3. Excelentes propriedades elétricas: as wafers de carburo de
silício têm propriedades elétricas superiores em comparaço com os
materiais de silício, com alta condutividade elétrica e mobilidade
de elétrons.
4• Excelente desempenho óptico: as wafers de carburo de silício
possuem boa transparência e forte resistência radiaço.
1Inversores, conversores CC-DC e carregadores a bordo para veículos
elétricos: Estas aplicações exigem um grande número de módulos de
energia.Os dispositivos de carburo de silício aumentam
significativamente a autonomia e reduzem o tempo de carregamento
dos veículos elétricos.
2Dispositivos de potência de carburo de silício para aplicações de
energia renovável: Dispositivos de potência de carburo de silício
utilizados em inversores para aplicações de energia solar e eólica
aumentam a utilizaço de energia,fornecer soluções mais eficientes
para o pico de carbono e a neutralidade de carbono.
3Aplicações de alta tenso como ferrovias de alta velocidade,
sistemas de metrô e redes de energia: os sistemas nesses campos
exigem tolerncia alta tenso, segurança e eficiência operacional.Os
dispositivos de potência baseados na epitaxia de carburo de silício
so a escolha ideal para as aplicações acima mencionadas.
4Dispositivos RF de alta potência para comunicaço 5G: Estes
dispositivos para o setor de comunicaço 5G exigem substratos com
alta condutividade térmica e propriedades de isolamento.Isto
facilita a realizaço de estruturas epitaxiais GaN superiores.
P: Qual é a diferença entre 4H-SiC e SiC?
R: O carburo de silício 4H (4H-SiC) se destaca como um politipo
superior de SiC devido sua ampla distncia de banda, excelente
estabilidade térmica e notáveis características elétricas e
mecnicas.
P: Quando deve ser utilizado o SiC?
R: Se você quiser citar alguém ou algo em seu trabalho, e perceber
que o material de origem contém um erro ortográfico ou
gramatical,Você usa sic para indicar o erro colocando-o logo após o
erro.
P: Porquê 4H SiC?
R: O 4H-SiC é preferido ao 6H-SiC para a maioria das aplicações
eletrônicas porque tem uma mobilidade eletrônica mais elevada e
mais isotrópica do que o 6H-SiC.