4H N tipo Semi tipo Wafer SiC 6 polegadas 12 polegadas Wafer SiC SiC substrato ((0001) Duplo lado polido Ra≤1 nm Personalização

4H N tipo Semi tipo Wafer SiC 6inch ((0001) Duplo lado polido Ra≤1 nm Personalizaço

Descriço da bolacha de SiC de 12 polegadas 4H do tipo N da bolacha de SiC do tipo semi:

Wafer SiC de 12 polegadas e 6 polegadas Wafers e substratos de carburo de silício (SiC) so materiais especializados usados na tecnologia de semicondutores feitos de carburo de silício,um composto conhecido pela sua elevada condutividade térmicaExcepcionalmente duras e leves, as wafers e substratos de SiC fornecem uma base robusta para a fabricaço de alta potência,Dispositivos eletrónicos de alta frequência, tais como componentes eletrónicos de potência e de radiofrequência.

Características da bolacha SiC de 12 polegadas e 6 polegadas 4H do tipo N da bolacha SiC do tipo Semi:

1.Wafer SiC de 12 polegadas e 6 polegadasResistência alta tenso: a wafer SiC tem mais de 10 vezes a resistência do campo de quebra em comparaço com o material Si.Isso permite que voltagens de quebra mais elevadas sejam alcançadas através de menor resistividade e camadas de deriva mais finasPara a mesma resistência de tenso, a resistência/tamanho em estado de funcionamento dos módulos de potência de wafer de SiC é apenas 1/10 de Si, o que leva a perdas de potência significativamente reduzidas.
2.Wafer SiC de 12 polegadas e 6 polegadasResistência a altas frequências: o Wafer SiC no apresenta o fenômeno da corrente de cauda, aumentando a velocidade de comutaço dos dispositivos.tornando-o adequado para frequências mais elevadas e velocidades de comutaço mais rápidas.
3.Wafer SiC de 12 polegadas e 6 polegadasResistência a altas temperaturas: a largura da faixa de separaço da wafer SiC ((~ 3.2 eV) é três vezes maior que a do Si, resultando em uma condutividade mais forte.e a velocidade de saturaço de elétrons é 2-3 vezes a do Si, permitindo um aumento de 10 vezes da frequência de funcionamento, com um ponto de fuso elevado (2830°C, aproximadamente o dobro do Si a 1410°C),Dispositivos de wafer SiC melhoram significativamente a temperatura de funcionamento, reduzindo as fugas de corrente.

Forma de wafer SiC de 12 polegadas e 6 polegadas 4H tipo N Wafer SiC semitipo:

Foto física da bolacha SiC de 12 polegadas e 6 polegadas 4H tipo N-tipo Semi-tipo:

Aplicaço de 12 polegadas 6 polegadas 4H N-tipo Semi-tipo Wafer SiC:

• Dispositivo de epitaxia de GaN

• Dispositivo optoeletrônico

• Dispositivo de alta frequência

• Dispositivo de alta potência

• Dispositivo de alta temperatura

• Diodos emissores de luz

Aplicaço Imagem do Wafer SiC de tipo N de 12 polegadas, 6 polegadas e 4H:

Personalizaço:

Os nossos serviços de personalizaço de produtos permitem-lhe adaptar a Wafer de Carbono de Silício s suas necessidades específicas.Podemos ajustar a camada de carburo de silício para atender s suas necessidades de condutividade e fornecer uma Wafer de silício de carburo que atenda s suas especificações exatasContacte-nos hoje para saber mais sobre os nossos serviços de personalizaço de produtos.

Perguntas e Respostas:

P: Que tamanho têm as bolachas de SiC?
R: Os nossos dimetros de wafer padro variam de 25,4 mm (1 polegada) a 300 mm (11,8 polegadas) de tamanho;Os wafers podem ser produzidos em várias espessuras e orientações, com lados polidos ou no polidos e podem incluir dopantes.
P: Porquê?SiC- Wafers caros?
R:O processo de sublimaço para produzir SiC requer uma energia significativa para atingir 2.200 ̊C, enquanto a bola utilizável final no tem mais de 25 mm de comprimento e os tempos de crescimento so muito longos.
Q:Como fazer uma bolacha de SiC?R:O processo envolve a converso de matérias-primas, como areia de sílica, em silício puro.a fatiagem dos cristais em minúsculos pedaços, discos planos, e a limpeza e preparaço das placas para utilizaço em dispositivos de semicondutores.

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