Wafer SiC 4 polegadas 12 polegadas 4H tipo N Tipo Semi-tipo Grau de produção Grau de pesquisa Grau de simulação DSP personalização

Tempo de entrega:2-4 semanas
Condições de pagamento:T/T
impureza:Impureza livre/baixa
Resistividade:Alto - baixa resistividade
Curva/urdidura:≤ 50um
Tipo:4H
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Wafer SiC 4 polegadas 12 polegadas 4H tipo N Tipo Semi-tipo Grau de produço Grau de pesquisa Grau de simulaço DSP personalizaço

Descriço do produto de12 polegadasWafer de SiC:

The rapid development of first-generation and second-generation semiconductor materials represented by silicon (Si) and gallium arsenide (GaAs) has propelled the swift advancement of microelectronics and optoelectronics technologiesNo entanto, devido a limitações no desempenho do material, os dispositivos fabricados a partir destes materiais semicondutores operam principalmente em ambientes abaixo de 200 °C,que no satisfaçam os requisitos da eletrónica moderna para a alta temperaturaOs dispositivos de alta frequência, de alta tenso e resistentes radiaço.Orifícios de carburo de silício, em especialWafers de SiC de 12 polegadaseWafers de SiC de 300 mm, oferecem propriedades materiais superiores que permitem um desempenho fiável em condições extremas.Wafers de SiC de grande dimetroA empresa está a acelerar a inovaço na electrónica avançada, fornecendo soluções que ultrapassam as limitações do Si e do GaAs.

O personagemde12 polegadas.Wafer de SiC:

1Larga Bandgap:

As bolinhas de carburo de silício de 12 polegadas SiC 300 têm uma banda larga, normalmente variando de 2,3 a 3,3 elétronvolts, maior do que o silício.Esta banda larga permite que os dispositivos de wafer de carburo de silício operem de forma estável em aplicações de alta temperatura e alta potência e apresentem alta mobilidade eletrônica.
2. Alta condutividade térmica:

Wafers de carburo de silício A condutividade térmica das bolinhas de carburo de silício é aproximadamente três vezes superior do silício, atingindo até 480 W/mK. Esta elevada condutividade térmica permite o carburo de silício.Dispositivos de wafer para dissipar o calor rapidamente, tornando-os adequados para os requisitos de gesto térmica dos dispositivos electrónicos de alta frequência.
3Campo elétrico de alta degradaço:

Wafers de carburo de silício possuem um campo elétrico de degradaço elevado, significativamente superior ao do silício, o que significa que, nas mesmas condições de campo elétrico, as bolhas de carburo de silício podem suportar voltagens mais elevadas,contribuindo para o aumento da densidade de potência nos dispositivos eletrónicos.
4. Corrente de baixa fuga:

Devido s características estruturais das wafers de carburo de silício, apresentam correntes de fuga muito baixas,tornando-os adequados para aplicações em ambientes de alta temperatura onde existem requisitos rigorosos para a corrente de fuga.

Tabela de parmetros de 4 polegadas 12 polegadas Wafer SiC:

GrauGrau zero de MPDGrau de produçoGrau de simulaço
Dimetro100.0 mm +/- 0,5 mm300.0 mm +/- 0,5 mm
Espessura4H-N350 um +/- 20 um350 um +/- 25 um
4H-SI1000 um +/- 50 um500 um +/- 25 um
Orientaço da waferNo eixo: <0001> +/- 0,5 graus para 4H-SI
Fora do eixo: 4,0 graus para <11-20> +/- 0,5 graus para 4H-N
Resistividade elétrica4H-N0.015 ~ 0.0250.015 ~ 0.028
(Ohm-cm)4H-SI> 1E9> 1E5
Orientaço plana primária{10-10} +/- 5,0 graus
Duraço plana primária32.5 mm +/- 2,0 mm
Duraço plana secundária18.0 mm +/- 2,0 mm
Orientaço plana secundáriaSilício virado para cima: 90 graus CW do plano primário +/- 5,0 graus
Excluso da borda3 mm
LTV/TTV/Bow/Warp

3um /5um /15um /30um/50um

10um /15um /25um /40um/50um

Superfície rugosaPolish Ra < 1 nm na face C
CMP Ra < 0,2 nmRa < 0,5 nm
As rachaduras inspeccionadas por luz de alta intensidadeNenhumNenhum1 permitido, 2 mm
Placas hexagonais inspeccionadas por luz de alta intensidadeÁrea acumulada ≤ 0,05%Área acumulada ≤ 0,1 %
Áreas de politipo inspeccionadas por luz de alta intensidadeNenhumNenhumÁrea acumulada≤3%
Riscos inspeccionados com luz de alta intensidadeNenhumNenhumComprimento acumulado≤1x dimetro da bolacha
Fragmentaço da bordaNenhumNenhum5 permitidos, ≤ 1 mm cada
Contaminaço da superfície verificada pela luz de alta intensidadeNenhum

Foto física de uma bolacha de SiC de 4 polegadas e 12 polegadas:

Aplicações da Wafer SiC:

 

 

 

1No campo da eletrónica, as wafers de carburo de silício so amplamente utilizadas na fabricaço de dispositivos semicondutores.pode ser utilizado na produço de potência elevada, dispositivos eletrônicos de alta frequência e alta temperatura, tais como transistores de potência, transistores de efeito de campo de RF e dispositivos eletrônicos de alta temperatura.Os wafers de carburo de silício também podem ser utilizados no fabrico de dispositivos ópticos, como LEDs., diodos laser e células solares. A bolacha de carburo de silício (SiC) de 4 polegadas e 12 polegadas é usada para veículos híbridos e elétricos e geraço de energia verde.

 

2No campo das aplicações térmicas, as obturadoras de carburo de silício encontram também uma ampla utilizaço.pode ser utilizado na produço de materiais cermicos de alta temperatura.

 

3No campo da óptica, as placas de carburo de silício também têm amplas aplicações.pode ser utilizado no fabrico de dispositivos ópticosAlém disso, as wafers de carburo de silício também podem ser utilizadas na produço de componentes ópticos, tais como janelas ópticas.

Imagem de aplicaço da bolacha de SiC:

Perguntas frequentes:

1Q: Que tamanho têm as bolinhas de SiC?
R: Os nossos dimetros de wafer padro variam de 25,4 mm a 300 mm; os wafers podem ser produzidos em várias espessuras e orientações, com lados polidos ou no polidos e podem incluir dopantes.
2Q: Qual é a diferença entre a bolacha de silício e a bolacha de carburo de silício?
R: Em comparaço com o silício, o carburo de silício tende a ter uma gama mais ampla de aplicações em cenários de temperaturas mais elevadas,mas devido ao seu processo de preparaço e pureza do produto acabado obtido.

Recomendaço do produto:

1.2 polegadas SIC Silicon Carbide Wafer 4H-N

 

 

2.Wafers de carburo de silício de 8 polegadas

 

China Wafer SiC 4 polegadas 12 polegadas 4H tipo N Tipo Semi-tipo Grau de produção Grau de pesquisa Grau de simulação DSP personalização supplier

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