Largura de banda do substrato N-InP 02:2Wafer epi de comprimento de
onda.5G de 1270 nm para diodo laser FP
O substrato N-InP FP Epiwafer's Overview
Nosso N-InP Substrate FP Epiwafer é uma bolacha epitaxial de alto
desempenho projetada para a fabricaço de diodos laser Fabry-Pérot
(FP), especificamente otimizados para aplicações de comunicaço
óptica.Este Epiwafer possui um substrato de Índio Fosfeto (N-InP)
tipo N, um material conhecido pelas suas excelentes propriedades
eletrónicas e optoeletrónicas, tornando-o ideal para dispositivos
de alta velocidade e de alta frequência.
O Epiwafer foi concebido para produzir diodos a laser a um
comprimento de onda de 1270 nm.que é um comprimento de onda crítico
para sistemas de multiplexagem por diviso de comprimento de onda
grosseira (CWDM) em comunicações de fibra ópticaO controlo preciso
da composiço e espessura da camada epitaxial garante um desempenho
óptimo, com o diodo laser FP capaz de atingir uma largura de banda
operacional de até 2,5 GHz.Esta largura de banda torna o
dispositivo adequado para transmisso de dados de alta velocidade,
que suportam aplicações que exigem uma comunicaço rápida e fiável.
A estrutura da cavidade Fabry-Pérot (FP) do diodo laser, facilitada
pelas camadas epitaxiais de alta qualidade no substrato InP,garante
a geraço de luz coerente com ruído mínimo e elevada eficiênciaEste
Epiwafer foi concebido para proporcionar um desempenho consistente
e fiável, tornando-o uma excelente escolha para os fabricantes que
pretendem produzir diodos laser de ponta para
telecomunicações,Centros de dados, e outros ambientes de rede de
alta velocidade.
Em resumo, o nosso N-InP Substrate FP Epiwafer é um componente
crítico para sistemas avançados de comunicaço óptica, oferecendo
excelentes propriedades de material, direcionamento de comprimento
de onda preciso,e largura de banda operacional elevadaProporciona
uma base sólida para a produço de diodos laser FP que satisfaçam as
exigências rigorosas das redes de comunicaço de alta velocidade
modernas.
Propriedades do substrato N-InP FP Epiwafer
The N-InP Substrate FP Epiwafer is characterized by a set of
specialized properties that make it an ideal choice for the
fabrication of Fabry-Pérot (FP) laser diodes used in
high-performance optical communication systemsAbaixo esto as
principais propriedades deste Epiwafer:
Material de substrato:
- Tipo: Fósforo de índio de tipo N (N-InP)
- Propriedades: Alta mobilidade eletrônica, baixa resistividade e excelente
condutividade térmica, tornando-o adequado para aplicações
eletrônicas e optoeletrônicas de alta velocidade.
Camada epitaxial:
- Técnica de crescimento: As camadas epitaxiais so cultivadas no substrato N-InP utilizando
técnicas como a Depensaço de Vapor Químico Metal-Orgnico (MOCVD) ou
a Epitaxia de Feixe Molecular (MBE).
- Composiço da camada: Controle preciso da concentraço de dopagem e da composiço dos
materiais para alcançar as propriedades electrónicas e ópticas
desejadas.
Comprimento de onda:
- Comprimento de onda alvo: 1270 nm
- Aplicaço: Ideal para multiplexaço por diviso de comprimento de onda
grosseira (CWDM) em sistemas de comunicaço de fibra óptica.
Largura de banda:
- Largura de banda operacional: Até 2,5 GHz
- Desempenho: Adequado para a transmisso de dados de alta velocidade,
garantindo um desempenho fiável nas telecomunicações e redes de
dados.
Cavidade de Fabry-Pérot:
- Estrutura: O Epiwafer suporta a formaço de uma cavidade de Fabry-Pérot,
essencial para gerar luz coerente com alta eficiência.
- Propriedades do laser: Produz diodos laser com ruído mínimo, emisso de comprimento de
onda estável e alta potência de saída.
Qualidade da superfície:
- Poluiço: A superfície do substrato é altamente polida para minimizar
defeitos, garantindo uma camada epitaxial de alta qualidade com
deslocamentos mínimos.
Propriedades térmicas:
- Dissipaço de calor: A excelente condutividade térmica do substrato N-InP permite uma
efetiva dissipaço de calor, crucial para manter o desempenho e a
longevidade do diodo laser.
Adequaço da aplicaço:
- Dispositivos alvo: concebido para diodos laser FP utilizados em sistemas de
comunicaço óptica, centros de dados e outros ambientes de rede de
alta velocidade.
Estas propriedades contribuem colectivamente para a capacidade do
Epiwafer para apoiar a produço de diodos laser FP de alta
qualidade,satisfazer as exigências rigorosas das tecnologias de
comunicaço óptica modernas.
Aplicações do substrato N-InP FP Epiwafer
O N-InP Substrate FP Epiwafer é um componente crítico no
desenvolvimento de dispositivos optoeletrônicos avançados,
particularmente os diodos laser Fabry-Pérot (FP).As suas
propriedades tornam-no adequado para uma ampla gama de aplicações
em comunicações de alta velocidade e campos relacionadosAqui esto
as principais aplicações:
Sistemas de comunicaço óptica:
- Transmisso por fibra óptica: O Epiwafer é ideal para a fabricaço de diodos laser FP que operam
no comprimento de onda de 1270 nm, comumente utilizados em sistemas
de multiplexagem por diviso de comprimento de onda grosseira
(CWDM).Estes sistemas dependem de um controle preciso do
comprimento de onda para transmitir vários canais de dados através
de uma única fibra, aumentando a largura de banda sem a necessidade
de fibras adicionais.
- Ligações de dados de alta velocidade: A wafer suporta diodos laser com uma largura de banda operacional
de até 2,5 GHz, tornando-a adequada para aplicações de transmisso
de dados de alta velocidade,Incluindo redes de área metropolitana
(MAN) e redes ópticas de longa distncia.
Centros de dados:
- Interligações: Os diodos laser FP fabricados a partir deste Epiwafer so
utilizados em interconexões ópticas dentro de centros de dados,
onde a comunicaço de alta velocidade e baixa latência é
crucial.Estes lasers garantem uma transferência de dados eficiente
entre servidores, sistemas de armazenamento e equipamento de rede.
- Infraestrutura de computaço em nuvem: medida que os serviços em nuvem exigem taxas de dados cada vez
maiores, os diodos laser FP ajudam a manter o desempenho e a
fiabilidade das redes de centros de dados, apoiando a grande
escala,ambientes de computaço distribuídos.
Serviços de telecomunicações:
- Redes 5G: O Epiwafer é utilizado na produço de diodos laser para
infra-estruturas de telecomunicações 5G, onde so necessárias altas
taxas de transferência de dados e conexões fiáveis.Os diodos laser
FP fornecem os sinais ópticos necessários para a transmisso de
dados através do backbone das redes 5G.
- FTTx (Fibra para x): Esta tecnologia envolve a implantaço de redes de fibra óptica
mais próximas dos utilizadores finais (domicílios, empresas) e os
diodos laser FP so componentes-chave dos transmissores ópticos
utilizados nos sistemas FTTx.
Equipamento de ensaio e mediço:
- Analisadores de espectro óptico: Os diodos laser FP produzidos a partir deste Epiwafer so
utilizados em analisadores de espectro óptico, que so ferramentas
essenciais para testar e medir o desempenho dos sistemas de
comunicaço óptica.
- Tomografia de coerência óptica (OCT): Na imagem médica, em especial nos sistemas OCT, os diodos laser
FP oferecem a fonte de luz necessária para a imagem de alta
resoluço dos tecidos biológicos.
Sensores e Metrologia:
- Sensores ópticos: A preciso e a estabilidade dos diodos laser FP tornam-nos
adequados para a utilizaço em sensores ópticos para monitorizaço
ambiental, controlo de processos industriais e aplicações
biomédicas.
- Distncia e sistemas de posicionamento: Os diodos laser FP so também utilizados em sistemas que exigem
medições precisas de distncia, como o LIDAR (Light Detection and
Ranging) e outras tecnologias de posicionamento.
A versatilidade e as características de alto desempenho do N-InP
Substrate FP Epiwafer tornam-no uma pedra angular para uma ampla
gama de tecnologias de ponta em comunicações ópticas, centros de
dados,serviços de telecomunicações, e além.
Fotos do substrato N-InP FP Epiwafer