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2 polegadas 4 polegadas GaN-on Sapphire Blue/Green LED Wafer Flat ou PPS Sapphire MOCVD DSP SSP
Os Wafers GaN on Sapphire (GaN/Sapphire) referem-se a um material de substrato composto por um substrato de safira com uma camada de nitreto de gálio (GaN) cultivada em cima.O GaN é um material semicondutor utilizado na fabricaço de dispositivos eletrônicos de alta potência e alta frequência, tais como diodos emissores de luz (LED), diodos laser e transistores de alta mobilidade eletrônica (HEMT).tornando-o um substrato adequado para o crescimento de GaNOs Wafers GaN on Sapphire so amplamente utilizados no fabrico de dispositivos optoeletrônicos, dispositivos de microondas e de ondas milimétricas e dispositivos eletrônicos de alta potência.
Estrutura e composiço:
Nitreto de gálio (GaN) Camada epitaxial:
Película fina de cristal único: a camada GaN é uma película fina de
cristal único, garantindo alta pureza e excelente qualidade
cristalina.O valor do valor do produto deve ser calculado em
conformidade com o modelo de referência..
Características do material: O GaN é conhecido por sua ampla faixa
de frequência (3,4 eV), alta mobilidade eletrônica e alta
condutividade térmica.Estas propriedades tornam-no altamente
adequado para aplicações de alta potência e alta frequência, bem
como dispositivos que operam em ambientes adversos.
Substrato de safira:
Resistência mecnica: o zafiro (Al2O3) é um material robusto com
resistência mecnica excepcional, proporcionando uma base estável e
durável para a camada de GaN.
Estabilidade térmica: o safiro apresenta um excelente desempenho
térmico, incluindo uma elevada condutividade térmica e estabilidade
térmica,Ajudando a dissipar o calor gerado durante o funcionamento
do dispositivo e a manter a integridade do dispositivo a altas
temperaturas.
Transparência óptica: A transparência do safiro na faixa
ultravioleta a infravermelha o torna adequado para aplicações
optoeletrônicas,com um dimetro superior a 30 mm,.
Tipos de modelos de GaN no Sapphire:
Nitreto de gálio de tipo n
Tipo p
Tipo de semi-isolaço
Os micro-LEDs so considerados uma tecnologia chave para a
plataforma metaverso para permitir exibições de próxima geraço para
realidade aumentada (AR), realidade virtual (VR), telefones
celulares e relógios inteligentes.
Podemos oferecer GaN baseado em vermelho, verde, azul, ou UV LED
Epitaxial Wafers, bem como outros. O substrato pode ser safira,
SiC, Silício e Bulk GaN Substrate. o tamanho está disponível de 2
polegadas a 4 polegadas
1P: Por que o GaN está no safiro?
R: O uso de substratos de safira permite tampões de GaN mais finos
e estruturas de epitaxia mais simples, devido ao crescimento de
maior qualidade, em relaço ao material cultivado no silício.O
substrato de safira também é mais elétrico do que o silício, o que
deverá permitir a capacidade de bloqueio de kilovolts.
2.P: Quais so as vantagens do GaN LED?
R: Economizaço substancial dos custos energéticos. Os sistemas de
iluminaço tradicionais, como as lmpadas incandescentes ou
fluorescentes, so muitas vezes energéticos e podem contribuir para
um aumento dos gastos energéticos.A iluminaço LED baseada em GaN é
altamente eficiente e consome muito menos energia, proporcionando
uma iluminaço superior.
1. 8 polegadas GaN-on-Si Epitaxy Si Substrate RF