alvo sputting de ITO do óxido da lata do índio para o filme

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Capacidade da fonte:1000pcs
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Dos Estados-activa
Shijiazhuang Hebei China
Endereço: TianshanStreet High-tech Development Zone, Shijiazhuang City, Hebei Province, China
Fornecedor do último login vezes: No 30 Horas
Detalhes do produto Perfil da empresa
Detalhes do produto
Fórmula química Em2O3/SnO2
Densidade relativa >=99.5%
Tamanho de partícula de cristal  5~15µm
Resistividade elétrica 0.1×10-3Ω·cm (high-density)
Expanso térmica linear 8.2×10-3K-1
Pureza >=99.99%
Aparência Preto (high-density) 

 

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alvo sputting de ITO do óxido da lata do índio para o filme

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