RO5200 Ta1 Alvo rotativo de tântalo Alvo de tubo de tântalo 100 mm Para CVD PVD

Número do modelo:costume
Local de origem:China
Quantidade mínima de encomenda:1pc
Condições de pagamento:T/T
Capacidade de abastecimento:5tons/month
Tempo de entrega:5 a 7 dias
Contate

Add to Cart

Dos Estados-Site
Baoji Shaanxi China
Endereço: Estrada de No.188 Gaoxin, cidade de Baoji do distrito de Weibin, Shaanxi, China
Fornecedor do último login vezes: No 35 Horas
Detalhes do produto Perfil da empresa
Detalhes do produto

Informações sobre o produto:

 

O alvo do tubo de tntalo é um alvo de tntalo tubular, também conhecido como alvo rotativo de tntalo.

 

NomeAlvo de rotaço de tntalo Alvo de tubo de tntalo
Purificaço≥ 99,95%
GrauRO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2
Densidade160,68 g/cm3
Peso atómico180.94788
Método de pulverizaçoDC
Conductividade térmica57 W/m.K
Coeficiente de expanso térmica6.3 x 10-6 /K
TamanhoOD: 20~300 mm Espessura da parede: ≥ 0,5 mm

 

 

Aplicaço do objectivo de rotaço Ta:

 

O objetivo do tubo de tntalo é uma matéria-prima de tntalo de alta pureza para deposiço por pulverizaço, que pode ser utilizada em semicondutores,Display de deposiço química de vapor (CVD) e de deposiço física de vapor (PVD) e aplicações ópticasOs pormenores so os seguintes:


- Para semicondutores;
- Displays de deposiço química de vapor (CVD);
- Displays de deposiço física de vapor (PVD);
- Aplicações ópticas.

 

Nota:Nós fornecemos serviços personalizados. Se você no conseguir encontrar o alvo que deseja, entre em contato conosco diretamente. Podemos personalizar de acordo com suas necessidades.

 

China RO5200 Ta1 Alvo rotativo de tântalo Alvo de tubo de tântalo 100 mm Para CVD PVD supplier

RO5200 Ta1 Alvo rotativo de tântalo Alvo de tubo de tântalo 100 mm Para CVD PVD

Inquiry Cart 0