Líquido de limpeza ultrassônico industrial personalizado com sistema 40KHz 88L do filtro

Descriço:

1. Efeito de limpeza do transdutor do poder superior significativamente,
2. observaço macroscópica útil;
3. Após ter limpado a luz do brilho dos objetos;
4. Tempo da bota do controle de Digitas LCD;
5. A de aço inoxidável e a tampa, bexiga, mais de gama alta;
6. As propriedades impermeáveis so melhoradas extremamente, mais produtos da segurança por último;
7. Com sistema da temperatura constante com aquecimento.
8. No processo de produço de dispositivos eletrónicos, os materiais, os metais, e os utensílios do semicondutor devem ser limpados. A limpeza é o processo de remover as várias substncias prejudiciais fixadas nas superfícies de materiais do semicondutor, de materiais do metal, e de utensílios da produço. O método de limpeza é usar um líquido de limpeza ultrassônico com um agente de limpeza para desorb impurezas da superfície do objeto a ser limpado, obtendo desse modo uma superfície limpa.

A limpeza química inclui principalmente três aspectos:
1. limpeza de superfície de materiais do semicondutor
2. limpeza dos materiais do metal (que incluem entorpecentes) usados no processo de produço
3. limpeza dos utensílios e dos utensílios usados no processo de produço.

Aplicações mais relacionadas:
1. remoço da graxa da oxidaço-prova; Limpeza de ferramentas de mediço; Remoço do óleo e remoço de oxidaço das peças mecnicas; Limpeza dos motores, dos carburadores e das peças de automóvel; Filtro, limpeza da draga da malha do filtro.

2. Esterilizaço da desinfecço da limpeza do equipamento médico; limpeza dos utensílios do teste.

3. Remova o óleo e a oxidaço antes do chapeamento; Limpeza antes do chapeamento do íon; Fosfatar; Remoço de depósitos de carbono; Removendo as peles do óxido; Pasta de lustro Remove; Tratamento da ativaço da superfície do workpiece do metal.

4. Máquina mais limpa ultrassônica industrial para limpar as peças eletrônicas: líquido de limpeza ultrassônico do PWB para a placa de circuito de limpeza.