Instalação de ensaio de matriz de precisão

Material:Aço Inoxidável+FR4
Revestimento de superfície:Polonês + Niquelagem
Aplicativo:Teste e manuseio de semicondutores ou componentes de alto volume
Local de Origem:China
Número do modelo:OEM
Quantidade mínima de pedido:1
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Fornecedor verificado
Chengdu Hongkong China
Endereço: Sala 501, 1o Edifício de Investigação e Desenvolvimento, Universidade da Cidade de Hong Kong, Filial Chengdu, Rua Yinhe 166, Rua Dongsheng, Shuangliu, Chengdu, China
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Fixaço de teste de matriz de preciso Syris

Fabricada pela Syris, esta fixaço de formato de matriz de preciso combina aço inoxidável polido e niquelado com material composto FR4,com um comprimento de dimetro no superior a 50 mm,.

Características principais:

  • Materiais:Estrutura de aço inoxidável polida e niquelada para uma excelente resistência corroso, resistência mecnica e longa vida útil em ciclos repetidos;Painel de inserço FR4 (laminado de vidro-epoxi) que fornece isolamento elétrico, estabilidade dimensional e peso leve
  • Tratamento de superfície:As superfícies de aço inoxidável espelhadas e niqueladas reduzem o atrito e a geraço de partículas, resistindo oxidaço e ao desgaste
  • Design:Layout uniforme de matriz de múltiplas cavidades (matriz 13 x 8) com bolsos quadrados precisos para assentos consistentes e repetíveis de componentes em todo o painel
  • Alinhamento preciso:Vários furos de alfinetes ao longo do perímetro garantem registro preciso e posicionamento repetível durante os processos de montagem, teste ou manuseio
  • Construço:Conjunto laminado de duas peças
  • Aplicaço:Apto como suporte, matriz de tomadas de ensaio ou dispositivo de manuseio para pacotes de semicondutores, conectores ou componentes eletrónicos que exijam um posicionamento repetível e de alta densidade

Capacidades de fabrico:
A Syris é especializada na fabricaço de metais de preciso, no acabamento de superfícies (polido e revestimento de níquel) e na montagem de materiais mistos com compósitos FR4,fornecimento de acessórios de matriz de alta densidade com tolerncias estreitas de cavidade para cavidade para aplicações de ensaio e manuseio de semicondutores.

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