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Alvos de pulverizaço planar de molibdênio de alta pureza
Descriço do alvo de pulverizaço de molibdênio
Na indústria electrónica, os alvos de pulverizaço de molibdênio so utilizados principalmente para ecrs de painel plano,Eletrodos e materiais de fiaço para células solares de película fina e materiais de camada de barreira para semicondutoresEstes so baseados no elevado ponto de fuso do molibdênio, na elevada condutividade elétrica, na baixa impedncia específica, na boa resistência corroso e nas boas propriedades ambientais.
Parmetros dos alvos de pulverizaço planar de molibdênio
Materiais: | Molibdênio | Forma: | Placas |
Purificaço: | 990,5% | Densidade: | 10.2 g/cm |
Cor: | De prata | Padro: | ASTM B386 |
Tamanho: | Costomizados | Superfície: | Brilhante |
Luz alta: | 99Meta de poluiço por molibdênio.95% Meta de pulverizaço de molibdênio 10,2 g/Cm3 Placas de molibdênio 10,2 g/Cm3 |
OD ((mm) | ID ((mm) | Duraço ((mm) | Fabricados sob medida |
140-180 mm | 125-135 mm | 100-3300 |
Capacidade de produço (alvo de pulverizaço planar de molibdênio)
Rectngulo | Duraço (mm) | Largura (mm) | Espessura ((mm) | Feito sob medida |
10 - 3000 | 10 - 800 | 1.0 a 50.8 | ||
Circular | Dimetro em mm |
| Espessura (mm) | |
10 - 1000 |
| 1.0 - 100 |
Especificações
Composiço | Mo (Mo1, TZM) |
Purificaço | 99.95% |
Densidade | 10.2 g/cm3 |
Tamanhos dos gros | 100 m2 ou a pedido |
Resistência corroso | Ra≤0,4m |
Tolerncia aplanura | < 4um |
Número atómico | 42 |
Número CAS | 7439-98-7 |
Massa atómica | 95.94 [g/mol] |
Ponto de fuso | 2620 °C |
Ponto de ebuliço | 4639 °C |
Densidade a 20 °C | 10.22 [g/cm] |
Estrutura cristalina | Cubo centrado no corpo |
Coeficiente de expanso térmica linear a 20 °C | 5.210-6[m/mK] |
Conductividade térmica a 20 °C | 142 [W/mK] |
Calor específico a 20 °C | 0.25 [J/gK] |
Conductividade elétrica a 20 °C | 17.9106[S/m] |
Resistência elétrica específica a 20 °C | 0.056 [(mm2)/m] |
Aplicações:
Indústria solar de película fina, células solares, engenharia de superfícies
Indústria do controlo táctil, ecrs planos
Indústria de semicondutores, microeletrónica, iluminaço automóvel e revestimento decorativo,
Indústria de vidro revestido (incluindo vidro arquitectónico, vidro automotivo, vidro óptico e outros filmes), etc.