Alta pureza 99,95% de tungstênio Sputtering Target Sandblasting
Local de origem:China
Quantidade mínima de encomenda:Negociar
Condições de pagamento:L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade de abastecimento:10000sets/month
Tempo de entrega:30 dias após receber o pagamento inicial
Detalhes da embalagem:caixas padrão de exportação
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Fornecedor verificado
Luoyang China
Endereço:
Parque de Ciência e Tecnologia da Universidade Nacional de Luoyang
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1,Descriço:
Material: Os materiais alvo de tungstênio so tipicamente fabricados a partir de tungstênio de alta pureza ou ligas de tungstênio, especificamente concebidos para uso em processos de deposiço física de vapor (PVD).
Alto ponto de fuso: o tungstênio tem um ponto de fuso excepcionalmente elevado de aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit),que permitam resistir s altas temperaturas geradas durante os processos PVD.
Densidade: Os materiais alvo de tungstênio têm uma alta densidade, normalmente variando de 17,8 a 19,3 gramas por centímetro cúbico (g/cm3), garantindo uma alta taxa de deposiço e uma utilizaço eficiente do material.
2,Especificações:
| Materiais | Outros, de aço inoxidável |
| Ponto de fuso | Aproximadamente 3.422 graus Celsius (6.191 graus Fahrenheit) |
| Densidade | 17.8 - 19,3 g/cm3 (g/cm3) |
| Conductividade térmica | Excelente condutividade térmica |
| Taxa de pulverizaço | Relativamente baixa taxa de pulverizaço, perda mínima de material |
| Purificaço | Altos níveis de pureza, impurezas mínimas |
| Uniformidade | Dimensões precisas e uniformidade para uma deposiço de filme consistente |
Alta pureza 99,95% de tungstênio Sputtering Target Sandblasting
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