CMP Polishing Ceramic Block Semiconductor Consumables ISO9001

O bloco cermico é feito de pó de alumina de alta pureza e ultrafinos por cura a alta temperatura.

Principais características

Alta pureza, menos impurezas, alta dureza, resistência ao desgaste e corroso.

Alta preciso, pequeno coeficiente de expanso térmica e boa retenço de preciso, boa resistência ao desgaste e corroso.

Aplicaço

É utilizado principalmente para o afinamento, polir duro e polir CMP de substratos de LED e wafers de semicondutores ((wafer de safira, wafer de SiC, wafer de silício, wafer de germnio, wafer de GaAs, wafer de GaN, etc.).

Especificações

China Abrasives Industry Hainan Corporation, cujo antecessor foi a China Abrasives Import & Export Corporation,que foi aprovada pela antiga Comisso Nacional de Máquinas e pelo Comité Estatal de Gesto das Importações e Exportações e fundada em 1981É uma empresa líder no negócio de importaço e exportaço da indústria de abrasivos da China, e a Unidade de Presidente do Ramo de Abrasivos da Associaço da Indústria de Máquinas Ferramentas da China.A empresa considera os serviços comerciais de abrasivos e indústrias conexas como o seu negócio principalApós anos de trabalho árduo e exploraço, a empresa acumulou uma riqueza de recursos de mercado e comércio internacional, e seus negócios cobrem mais de 80 países e regiões.

Em setembro de 2013, a empresa juntou-se SINOMACH Precision Industry Co., Ltd., uma subsidiária da China National Machinery Industry Corporation (abreviada como SINOMACH).Baseando-se nas fortes vantagens do grupo e no apoio de cinco grandes bases de I&D e de fabrico, a empresa integra produtos e serviços e combina importaço e exportaço.Os seus produtos so amplamente utilizados na construço, automóveis, electrónica, aço e energia.A CAEC fornece aos clientes uma série de produtos e uma gama completa de serviços.