5x10mm2 Sp Face Gan Epitaxial Wafer Un Dopado Si Tipo Gan Substrato Monocristal

Number modelo:JDCD01-001-018
Lugar de origem:Suzhou China
Termos do pagamento:T/T
Capacidade da fonte:10000pcs/Month
Prazo de entrega:3-4 dias da semana
Detalhes de empacotamento:Embalagem a vácuo em um ambiente de sala limpa classe 10000, em cassetes de 6 peças ou recipientes d
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Shanghai Shanghai China
Endereço: Prédio 11, Pista 1333, Avenida Jiangnan, Cidade de Changxing, Distrito de Chongming, Xangai
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5*10mm2Face SP (20-21)/(20-2-1) Tipo SI no dopado Substrato monocristal de GaN independente Resistividade > 106Wafer de dispositivos de RF de Ω·cm



Viso geral
Diferentes tipos de redes adversárias generativas (GANs)

DC GAN – É um GAN convolucional profundo....
GAN condicional e GAN incondicional (CGAN) – GAN condicional é uma rede neural de aprendizado profundo na qual alguns parmetros adicionais so usados.


(20-21)/(20-2-1) face Free-standeung GaN Substrates
Item

GaN-FS-SP-US

GaN-FS-SP-NS

GaN-FS-SP-SI-S


Observações:

Um ngulo de arco circular (R < 2 mm) é usado para distinguir a superfície frontal e posterior.

Dimensões5 x 10 mm2
Grossura350 ±25 µm
Orientaço

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ngulo em direço ao eixo A 0 ±0,5°

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ngulo em direço ao eixo C - 1 ±0,2°

Tipo de Conduçotipo Ntipo NSemi-isolante
Resistividade (300K)< 0,1 Ω·cm< 0,05 Ω·cm> 106Ω·cm
TTV≤ 10 µm
ARCO- 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm
Rugosidade da Superfície Frontal

< 0,2 nm (polido);

ou < 0,3 nm (polido e tratamento de superfície para epitaxia)

Rugosidade da Superfície Traseira

0,5 ~1,5 μm

opço: 1~3 nm (solo fino);< 0,2 nm (polido)

Densidade de DeslocamentoDe 1 x 105para 3 x 106cm-2
Densidade de Defeito Macro0 cm-2
Área Útil> 90% (excluso de borda)
PacoteEmbalado em um ambiente de sala limpa classe 100, em contêiner de 6 PCS, sob uma atmosfera de nitrogênio

Apêndice: O diagrama do ngulo de corte incorreto


Se δ1= 0 ±0,5°, ento (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ngulo em direço ao eixo A é 0 ±0,5°.

Se δ2= - 1 ±0,2°, ento (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ngulo em direço ao eixo C é - 1 ±0,2°.


Sobre nós

Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboraço com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa viso manter um bom relacionamento de cooperaço com todos os nossos clientes por nossa boa reputaço.


Perguntas frequentes

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5x10mm2 Sp Face Gan Epitaxial Wafer Un Dopado Si Tipo Gan Substrato Monocristal

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