Os sistemas do depósito PLD do laser pulsado engasgam o alvo para o magnétron da C.C. RF que engasga sistemas

Number modelo:MS
Lugar de origem:China
Quantidade de ordem mínima:1 parte
Termos do pagamento:L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacidade da fonte:10000 partes pelo mês
Prazo de entrega:3 dias de trabalho
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Alvo do salpico para sistemas do depósito do laser pulsado (PLD) e magnétron da C.C. ou do RF que engasga sistemas

 

Nós fornecemos uma vasta gama de alvo do salpico que inclui o metal, a liga, a terra rara, o único cristal, o composto, e o vário alvo cermico, tal como alvo do salpico do óxido, do nitreto, do carboneto, do Boride, do sulfureto, do Selenide e do Telluride. Nós fornecemos uma linha completa de engasgar os materiais de alvo apropriados para sistemas do depósito do laser pulsado (PLD) e C.C. ou o magnétron do RF que engasga sistemas, estes alvos pode ser fabricado para caber todo o incluir dos sistemas engasgar redondo, retangular, a S-arma, o delta, e o anel. O alvo do salpico pode ser fabricado na forma redonda ou quadrada, com placa traseira ou sem depands da placa traseira no material do sistema e de alvo engasgar você tem, nosso tamanho padro de 1" a 12" no dimetro, escala da espessura de 1 milímetro, 3 milímetros a 6 milímetros, construço na única ou da múltiplo-parte. Além, nós podemos oferecer as especificações feitas sob encomenda projetadas seus incluir original das necessidades, dimenso, espessura, pureza, densidade, tamanho de gro uniforme, taxa da composiço, e placa traseira diferente. Nós temos vários alvos do salpico na máquina do estoque e da lata a sua especificaço com boa qualidade. Contacte-nos para mais informaço.

Método da fabricaçoCampo da aplicaço
Presso quente do vácuoSemicondutor
Presso isostatic quenteArmazenamento de dados
Presso isostatic friaÓtica eletrónica
Limpe a aglomeraçoTela plano
Derretimento de arco do vácuoCélula solar

 

Especificaço de produto

 

Pureza99,9%/99,99%/99,999%
DimetroØ 1"/Ø 2"/Ø 3"/Ø 4"/Ø 6"/Ø 8"
Espessura3 milímetros ~ 6 milímetros
Placa traseiraCobre de OFHC
LigaçoCola Epoxy do índio/AG
PacoteVácuo selado

1. Alvo do salpico do Boride

CrB, fevereiro, HfB2, LaB6, MgB2, Mo2B5, NbB, SmB6, aba, TiB2, WB, VB, VB2, ZrB2

 

2. Alvo do salpico do carboneto

B4C, Cr3C2, HfC, Mo2C, NBC, sic, TaC, tique, TiCN, VC, WC, VC, ZrC

 

3. Alvo do salpico do fluoreto

BaF2, CaF2, CeF3, FeF2, KF, LaF3, PbF2, MgF2, NAF

 

4. Alvo do salpico do nitreto

AlN, BN, CrN, GaN, HfN, penso, NbN, NbCrN, Si3N4, bronzea-se, estanha-se, VN, ZnN, ZRN, ZrCN

 

5. Alvo do salpico do óxido

Al2O3, ATO, AZO, BaTiO3, BSCCO, BST, CeO2, CuO, Cr2O3, Fe2O3, HfO2, In2O3, ITO, IZO, IZGO, IZTO, LaAl2O3, LaSrMnO3, LiNbO3, MgO, MoO3, NIO, Nb2O5, PbTiO3, PZT, Sb2O3, SiO, SiO2, SnO2, SrRuO3, SrTiO3, Ta2O5, TiO2, SnO2, V2O5, WO3, Y2O3, Yb2O3, YBCO, YSZ, ZnO, ZAO, ZGO, ZIO, ZTO

 

6. Alvo do salpico do Selenide

Al2Se3, Bi2Se3, CdSe, CuSe, Cu2Se, FeSe2, GeSe, In2Se3, MoSe2, MnSe, NbSe2, PbSe, Sb2Se3, SnSe, TaSe2, WSe2, ZnSe

 

7. Alvo do salpico do Silicide

CoSi2, CrSi2, FeSi2, HfSi2, MoSi2, NbSi2, NiSi2, TaSi2, TiSi2, WSi2, VSi2, ZrSi2

 

8. Alvo do salpico do sulfureto

CD, porque, Cu2S, FeS2, gás, GeS, In2S3, PbS, MoS2, NiS, TiS2, Sb2S3, SnS, WS2, ZnS

 

9. Alvo do salpico do Telluride

Al2Te3, Bi2Te3, CdTe, bonito, porta, Ga2Te3, GeTe, PbTe, MnTe, MoTe2, NbTe2, TaTe2, SbTe, SnTe, WTe2, ZnTe
 

 

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Os sistemas do depósito PLD do laser pulsado engasgam o alvo para o magnétron da C.C. RF que engasga sistemas

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