O micro da objetiva espana a máquina da limpeza de pulverizador de Limpeza Máquina Di Água 2-Fluid do semicondutor
Number modelo:CMC-800
Lugar de origem:Dongguan, China
Quantidade de ordem mínima:1 grupo
Termos do pagamento:L/C, T/T, D/P, Western Union, Paypal, grama do dinheiro
Capacidade da fonte:300sets pelo ano
Prazo de entrega:30~40 dias
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Fornecedor verificado
Dongguan Guangdong China
Endereço:
Construção 3, No.12, estrada de Wusha Zhenyuan, cidade de Chang'an, cidade de Dongguan, província de Guangdong
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No 14 Horas
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Descriço do produto
CMC-800Máquina de limpeza de semicondutores de micropó para lentes de cmera Máquina de limpeza com spray de 2 fluidos é usado principalmente para limpar micro poeiras em produtos de módulo de cmera, como: Wafer, CMOS, Holder... etc.Usando nossa tecnologia de limpeza por spray de varredura de água DI, o CMC-800 lava muito pouco micro poeira e usando a tecnologia de secagem centrífuga de 1000 RPM, o CMC-800 pode secar rapidamente os produtos.
Características da máquina:
1. Especialmente projetado para limpar poeira em produtos de módulo
de cmera.
2. Estrutura de aço inoxidável espelhada, adequada para sala limpa.
3. A placa limpa é feita especialmente de acordo com os produtos, a
placa limpa pode ser trocada de acordo com os diferentes requisitos
de limpeza dos produtos.
4. Controle PLC, operaço fácil.
5. Porta frontal transparente prova de exploso, operaço segura,
conveniente para observaço.
6. Todas as máquinas exibidas por metros.O status da limpeza está
sendo monitorado no momento.
7. 2 jatos limpos, alta preciso de limpeza, sem danos aos produtos,
muito pouco consumo de água desionizada.
8. Gire as hastes de pulverizaço, sem poluiço secundária.
9. Equipado com eliminador de estática, dispositivo de aquecimento
de sala de limpeza, ajuda a alcançar o melhor resultado de limpeza.
10. Equipado com sistema de filtragem de ar de 2 níveis, o ar
comprimido atende ao padro ISO8573.1.
11. Máquina compacta, pegada menor.
12. Use água desionizada pura, em conformidade com o padro RoHs.
Especificações da máquina:
| Placa de limpeza | Feito sob medida (dimetro da placa de limpeza <550mm) | |
| método limpo | 2 fluxo limpo | |
| método seco | Seco centrífugo de alta velocidade | |
| Fonte de energia | AC380V 50HZ | |
| Poder | 7KW | |
| Consumo de energia | Potência de limpeza: 3,5kw/h | Potência em espera: 1kw/h |
| Gire o poder | 3HP | |
| Método de filtragem do ambiente | 0,3μm;99,999% | |
| Método de filtragem de ar | 1μm×1;0,01μm×1 | |
| Velocidade de rotaço centrífuga | 100-1500RPM | |
| presso limpa | Presso da água:3-8Kgf/cm² presso do ar:0,2-0,5Mpa | |
| abastecimento de água desionizada | Vazo:>7LPM Resistividade:>17MΩ | |
| Consumo de ar | Presso:0,45-0,7Mpa;vazo:>30m³/H(boa limpeza) | |
| Dimetro de entrada de água DI | Mangueira macia de ø12mm ou junta fêmea PT1/2″ | |
| Dimetro do suprimento de ar | mangueira de ø12mm | |
| Dimetro de saída de água | PT 1″junta fêmea | |
| Dimetro de saída de ar | 4″×2 (precisa de dispositivo de bombeamento de ar, velocidade do ar acima de 3m/seg) | |
| Tamanho da máquina | 880mm(L)×960mm(L)×1880mm(A) | |
| Peso da máquina | 450KG | |
Imagem da máquina:
O micro da objetiva espana a máquina da limpeza de pulverizador de Limpeza Máquina Di Água 2-Fluid do semicondutor
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