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Alvos cilíndricos engasgar do titnio, depósito do filme fino do alvo do cilindro de gerencio do titnio, magnétron
titnio rotativo da pureza alta que engasga alvos com a densidade possível a mais alta e os tamanhos de gro médios possíveis os menores para o uso no semicondutor, o depósito de vapor químico (CVD) e exposiço física do depósito de vapor (PVD) e aplicações óticas.
Especificaço
Composiço | Si |
Pureza | Categoria 2 do PC (99,5%), categoria 1 do PC (99,7%), 3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%) |
Densidade | 4,51 g/cm3 |
Tamanhos de gro | < 50="" micron="" or="" on="" request=""> |
Processos da fabricaço | Limpe o derretimento, forjando, expulsar, fazendo máquina |
Forma | Em linha reta, osso de co |
Tipos da extremidade | SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI termina a fixaço, sulco espiral, feito--medida |
Superfície | Ra 1,6 mícrons ou a pedido |
Magnétron relacionado que engasga o alvo de gerencio
Magnétron que engasga o alvo, alvo de /rotating (alvo do tubo) | |||||
Artigo | pureza | Densidade | forma | Dimenso (milímetros) | |
Alvo de TiAl | 2N8-4N | 3.6-4.2 | Tubo, disco, placa | OD70 x T 7 x L Outro como personalizado | |
Alvo do Cr | 2N7-4N | 7,19 | Tubo, disco, placa | OD80 X T8 X LITRO Outro como personalizado | |
Alvo do si | 2N8-4N | 4,51 | Tubo, disco, placa | OD127 x ID105 x litro OD219 x ID194 x litro OD300 x ID155 x litro Outro como personalizado | |
Alvo do Zr | 2N5-4N | 6,5 | Tubo, disco, placa | Outro como personalizado | |
Alvo do Al | 4N-5N | 2,8 | Tubo, disco, placa | ||
Alvo do Ni | 3N-4N | 8,9 | Tubo, disco, placa | ||
Alvo do Cu (cobre) | 3N-4N5 | 8,92 | Tubo, disco, placa | ||
Alvo do Cu (bronze) | 3N-4N5 | 8,92 | Tubo, disco, placa | ||
Alvo de Ta | 3N5-4N | 16,68 | Tubo, disco, placa | OD146xID136x299.67 (3pcs) |
Imagem cilíndrica dos alvos engasgar do titnio: