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Ion Implanting Molybdenum Products é uma tecnologia do feixe de íon que ionize os átomos de um elemento em íons, os acelere em uma tenso dos dez s centenas de quilovolt, e o injete na superfície do material do workpiece colocada na cmara do alvo do vácuo após ter obtido a alta velocidade.
Após a implantaço de íon, as propriedades do exame, as químicas e as mecnicas da superfície do material mudaro significativamente. A resistência de desgaste contínua da superfície de metal pode alcançar 2 ~ 3 ordens de grandeza da profundidade inicial da implantaço.
ESPECIFICAÇO & COMPOSIÇÕES QUIMICAS (SUBSTANTIVOS)
Material | Tipo | Composiço quimica (por peso) |
Moly puro | Mo1 | >99.95%min. Mo |
Liga Si-Zr-Mo | TZM | Zr do si de 0,5%/0,08%/0,01 - 0,04% C |
Mo-Hf-c | MHC | Hf de 1,2%/0,05 - 0,12% C |
Rênio de Moly | Mais | 5,0% re |
Tungstênio de Moly | MoW20 | 20,0% W |
Tungstênio de Moly | MoW505 | 0,0% W |
(1) é uma tecnologia no poluída pura do tratamento de superfície;
(2) no precisa a ativaço térmica e o ambiente de alta temperatura,
assim que no mudará a dimenso total e o revestimento de superfície
do workpiece;
(3) camadas da implantaço de íon so uma camada de superfície nova
formada por uma série de interações físicas e químicas entre o
feixe de íon e a superfície da carcaça, e no há nenhum problema de
descascamento entre ele e a carcaça;
(4) no há nenhuma necessidade para fazer máquina e tratamento
térmico após a implantaço de íon.
Na tecnologia de semicondutor, a implantaço de íon tem a uniformidade e a repetibilidade da dose da elevada preciso. Pode obter a concentraço e a integraço de lubrificaço ideais, para melhorar extremamente a integraço, a velocidade, o rendimento e a vida útil do circuito, e reduz o consumo do custo e da potência. Isto é diferente do depósito de vapor químico.
A fim obter parmetros ideais, tais como a espessura de filme e a densidade, o depósito de vapor químico precisa de ajustar o equipamento que ajusta parmetros, tais como a temperatura e o caudal do ar, que é um processo complexo.
Além do que a indústria da produço do semicondutor, com o desenvolvimento rápido da automatizaço de controle industrial, a tecnologia da implantaço de íon é igualmente amplamente utilizada na melhoria dos metais, da cermica, do vidro, dos compostos, dos polímeros, dos minerais e das sementes da planta.