99.99% Puridade HIP Pistola de revestimento de pó eletrostático redondo com acabamento de superfície polido

Descriço do produto:

A estrutura cristalina do alvo de pulverizaço de metal pode ser personalizada para atender aos requisitos únicos de cada aplicaço.que é essencial para alcançar resultados ideaisA superfície também pode ser anodizada para uma maior durabilidade e resistência ao desgaste.

A pureza do alvo de pulverizaço de metal é de 99,99%, o que garante um desempenho consistente ao longo do tempo.Este alto nível de pureza é alcançado através de um rigoroso processo de fabricaço que envolve o uso de tecnologias e técnicas avançadas.

O alvo de pulverizaço de metal é ligado com ínio, o que fornece uma ligaço forte e confiável ao substrato.Este processo de ligaço é fundamental para garantir que o alvo esteja firmemente fixado no local durante o processo de pulverizaço.

O Metal Sputtering Target é compatível com uma variedade de sistemas de pulverizaço, incluindo aqueles que usam uma arma de revestimento de pó eletrostático, um feixe de aço carbono I ou uma arma de cola de fuso a quente.Esta compatibilidade torna-o um produto versátil que pode ser utilizado numa ampla gama de aplicações industriais e científicas.

Em geral, o Metal Sputtering Target é um produto de alta qualidade que oferece desempenho confiável e consistente.e alta pureza torná-lo uma escolha ideal para uma ampla gama de aplicações, enquanto a sua forte ligaço com o ínio garante que permaneça firmemente no lugar durante o processo de pulverizaço.

Características:

• Nome do produto: Meta de pulverizaço de metais
• Roughness da superfície: Ra < 0,8 Um
• Configuraço do alvo: único ou múltiplo
• Superfície: Polida, anodizante
• Revestimento da superfície: polido
• Pureza: 99,99%

Este produto é ideal para indústrias que exigem metais de alta pureza para seus processos.A configuraço do alvo pode ser única ou múltiplaA superfície pode ser polida ou anodizada, dependendo da sua preferência. O acabamento da superfície é sempre polido para garantir que o processo de pulverizaço seja consistente.A pureza do metal é 99Este produto é um componente chave na impresso 3D de pó de metal, feixe de aço carbono I,e processos de fabrico de pistolas de cola de fuso a quente.

Parmetros técnicos:

Aplicações:

Uma das principais aplicações do Metal Sputtering Target é na fabricaço de semicondutores.O Metal Sputtering Target também é utilizado na produço de células solaresAlém disso, este material é ideal para uso na produço de meios de armazenamento magnéticos, como unidades de disco rígido.

Outra aplicaço do Metal Sputtering Target é na produço de revestimentos decorativos.O material é usado na arma de revestimento de pó eletrostático para criar um revestimento liso e uniforme em várias superfíciesO Metal Sputtering Target também é usado no fabrico de metais de aço ligado de alto desempenho,que é comumente utilizado nas indústrias aeroespacial e automotiva.

Além disso, o Metal Sputtering Target é amplamente utilizado na produço de dispositivos e equipamentos médicos.e outros implantes médicosÉ também utilizado na produço de instrumentos e ferramentas médicas.

O Metal Sputtering Target é compatível com uma ampla gama de processos de fabrico, incluindo prensagem isostática a quente (HIP) e vários processos de usinagem.É também ideal para aplicações que exigem alta preciso e precisoO material pode ser configurado como um único ou múltiplos alvos, dependendo dos requisitos específicos da aplicaço.

O Metal Sputtering Target também é adequado para uso na máquina de detecço de metais de transportador.O material também é fácil de limpar e manter, tornando-a uma soluço rentável para várias aplicações.

Personalizaço:

Personalize o seu alvo de pulverizaço de metal com os nossos Serviços de Personalizaço de Produtos.

• Roughness da superfície: Ra < 0,8 Um
• Superfície: Polida, anodizante
• Estrutura de cristal: personalizada
• Forma: redonda
• Processo de moldagem: prensagem isostática a quente (HIP)

O nosso alvo de pulverizaço de metal é feito com um feixe de aço carbono de alta qualidade e é compatível com a nossa tecnologia de detecço de metais de queda livre.Nós oferecemos a impresso 3D de pó de metal para suas necessidades de personalizaço.

Apoio e Serviços:

Nossos produtos Metal Sputtering Target so projetados para atender aos exigentes requisitos de deposiço de filme fino nas indústrias de semicondutores, exibiço e solar.Oferecemos uma ampla gama de materiais incluindo metais puros, ligas e cermicas em várias formas e tamanhos para atender s suas necessidades específicas de processo.

Nossa equipe de suporte técnico está disponível para ajudá-lo com quaisquer perguntas que você possa ter sobre nossos alvos de pulverizaço, incluindo seleço de materiais, ligaço de alvos e otimizaço de processos.Também oferecemos serviços de design e fabricaço personalizados para atender s suas necessidades únicas.

Para além dos nossos produtos alvo de pulverizaço, também oferecemos uma variedade de serviços para apoiar os seus processos de deposiço de película fina.

• Serviços de fixaço de valores
• Objetivo de reciclagem e recuperaço
• Caracterizaço e análise do filme fino
• Manutenço e reparaço de equipamentos

Nosso objetivo é fornecer produtos e serviços de alta qualidade para ajudá-lo a atingir seus objetivos de deposiço de filme fino.Entre em contato conosco hoje para saber mais sobre nossos produtos e serviços Metal Sputtering Target.