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O alvo de pulverizaço de metal é ligado com indio, o que resulta numa ligaço forte e durável.que so essenciais para a produço de películas finas de alta qualidadeO alvo tem uma pureza de 99,99%, o que garante que os filmes produzidos sejam da mais alta qualidade.
O Metal Sputtering Target é compatível com uma ampla gama de substratos e pode ser personalizado para atender aos requisitos específicos da sua aplicaço.Isto torna-o uma escolha ideal para uma variedade de aplicações, incluindo a deposiço de películas finas em vigas de aço carbono I, vigas de aço H e outros substratos.
O alvo de pulverizaço de metal tem uma densidade personalizada, o que permite alcançar excelente adeso e qualidade de filme.que reduz a necessidade de substituiço e manutenço frequentes.
Se você está trabalhando na indústria de semicondutores, na indústria de filmes finos ou em qualquer outra indústria que exija alvos de pulverizaço de alta qualidade, nosso alvo de pulverizaço de metal é a escolha perfeita.É um sistema confiável., produto durável e eficiente que irá ajudá-lo a atingir os seus objetivos de produço e atender s necessidades dos seus clientes.
Utilizar o produto Metal Sputtering Target para aplicações como:
Parmetro técnico | Valor |
---|---|
Materiais | Metal de aço ligado |
Espessura | 10-600 mm |
Densidade | Personalizado |
Purificaço | 99.99% |
Configuraço do alvo | Indicado como único ou múltiplo |
Estrutura cristalina | Personalizado |
Superfície rugosa | Ra < 0,8 Um |
Forma | Rondas |
Ligaço de alvos | Ácido acético |
Técnica | Forjados e Machinados CNC |
Superfície | Polida, anodizante |
O alvo de pulverizaço de metal é compatível com uma ampla gama de substratos, incluindo feixe de aço carbono I, metal de aço ligado e outros materiais semelhantes.Isto torna-o um produto versátil que pode ser utilizado em uma variedade de aplicações industriaisTem um nível de pureza de 99,99%, o que garante que as películas finas produzidas sejam de alta qualidade e tenham propriedades consistentes.
O alvo de pulverizaço de metal é ligado com Índio, o que garante uma forte adeso ao substrato durante o processo de pulverizaço.Isto torna-o um produto ideal para utilizaço em aplicações onde é necessário um processo de deposiço fiável e estável.
O Metal Sputtering Target é amplamente utilizado na indústria de semicondutores para a produço de películas finas em wafers de silício.e outros dispositivos eletrónicosAlém disso, é utilizado na indústria aeroespacial para a produço de materiais avançados que so utilizados em componentes de aeronaves.
O alvo de pulverizaço de metal também pode ser usado na indústria médica para a produço de filmes finos que so usados em dispositivos médicos.Também é usado na indústria automotiva para a produço de revestimentos que protegem a superfície de peças automotivas da corroso e desgaste.
Em resumo, o Metal Sputtering Target é um produto altamente versátil que pode ser usado em uma ampla gama de aplicações industriais.compatibilidade do substrato, alto nível de pureza e ligaço de Índio tornam-no um produto ideal para uso nas indústrias de semicondutores, aeroespacial, médica e automotiva.
O nosso alvo de pulverizaço de metal pode ser personalizado para atender s suas necessidades específicas.
Além disso, oferecemos impresso 3D de pó de metal, transportador de detector de metal industrial e serviços de máquina de detector de metal de transportador para personalizar ainda mais seu produto.
O suporte técnico e os serviços do produto Metal Sputtering Target incluem: