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4 bolacha da polegada LNOI que consegue a integração fotónica compacta

Number modelo:Bolacha de LNOI
Lugar de origem:CHINA
Quantidade de ordem mínima:25 unidades
Termos do pagamento:T/T
Capacidade da fonte:50000 PCS/Month
Prazo de entrega:1-4 semanas
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Conseguindo a integraço fotónica compacta com as bolachas de 4-Inch LNOI

 

LNOI representa o nióbito do lítio no isolador, que é uma tecnologia especializada da carcaça usada no campo do photonics integrado. As carcaças de LNOI so fabricadas transferindo uma camada fina de cristal em uma carcaça de isolamento, tipicamente dióxido de silicone (SiO2) ou nitreto do nióbito do lítio (LiNbO3) de silicone (Si3N4). Esta tecnologia oferece vantagens originais para o desenvolvimento de dispositivos fotónicos compactos e de capacidade elevada.

 

A fabricaço de carcaças de LNOI envolve ligar uma camada fina de LiNbO3 em uma camada de isolamento usando técnicas como a ligaço ou o íon-corte da bolacha. Isto conduz a uma estrutura onde LiNbO3 seja suspendido em uma carcaça no-condutora, fornecendo o isolamento elétrico e reduzindo as perdas óticas do medidor de ondas.

 

Aplicações de LNOI:

  • Photonics integrado
  • Uma comunicaço ótica
  • Detecço e metrologia
  • Sistema ótico do quantum

 

Bolacha de LNOI
EstruturaLN/SiO2/siLTV/PLTV< 1="">) do milímetro2do 5/95%
Dimetro± Φ100 0,2 milímetrosBorda Exclution5 milímetros
Espessura500 μm do ± 20CurvaDentro do μm 50
Comprimento liso preliminar± 47,5 2 milímetros
± 57,5 2 milímetros
Aparamento da borda± 2 0,5 milímetros
Chanfradura da bolachaR do tipoAmbientalRohs 2,0
Camada superior de LN
Espessura média400/600±10 nanômetroUniformidade< 40nm="">
Índice da refraçonenhuns > 2,2800, ne < 2="">Orientaço± 0.3° da linha central de X
CategoriaÓticoRa de superfície< 0="">
Defeitos>1mm nenhuns;
1milímetrodentrode300totais
DelaminaçoNenhum
Risco>1cm nenhuns;
1cmdentrode3
Plano preliminarPerpendicular ao ± 1° da linha central de +Y
Isolamento SiO2 camadas
Espessura média2000nm ± 100nm do ± 50nm 4700nm do ± 15nm 3000nmUniformidade<>
Fabuloso. MétodoÓxido térmicoÍndice da refraço1.45-1.47 @ 633 nanômetro
Carcaça
MaterialSiOrientaço<100> ± 1°
Orientaço lisa preliminar<110> ± 1°Resistividade> kΩ 10·cm
Contaminaço da parte traseiraNenhuma mancha visívelParte traseiraGravura em gua forte

 

 

 


 

 

 

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