Substrato de vidro de sílica fundido de 16 ± 2 mm, Wafer com relatório de inspecção 5 arc sec

Ponto inicial de dano:>10J/cm2
Materiais:Vidro de sílica fundido
urdidura:< 35um
Perpendicularity:5 Sec. de Arco
Relatório de inspeção:Pelo pedido
Índice de refração:1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
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Descriço do produto:

A Wafer de Sílica Fundida é feita de vidro de silicato de alumina e vidro de borosilicato.É um material ideal para muitas aplicações devido s suas excelentes propriedades ópticas e baixo coeficiente de expanso térmicaA Wafer de Silício Fundido está disponível em diferentes tamanhos, incluindo componentes ópticos, wafers semicondutores e componentes microeletrônicos.de dimetro compreendido entre 2 e 12 polegadasTem um convexo de 0,25 mm X 45 ° e tem uma deformaço de menos de 35 um. Tem um TTV baixo de menos de 2 um e menos de 5 um. Além disso, pode ser revestido com AR, HR e V-Coat para vários fins.

 

Características:

  • Nome do produto: Wafer de sílica fundida
  • Revestimento: AR, HR, V-Coat
  • Distncia de transmisso: 0,17 ~ 2,1 um, 0,26 ~ 2,1 um, .0185~3.5um
  • Marca: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
  • Refletividade: < 0,25%
  • Perpendicularidade: 5 sec. de arco
  • Material: Vidro borosilicato
  • Substrato: Placas de silicato de cálcio
  • Aplicaço: Wafer de Silício IC
 

Parmetros técnicos:

MateriaisSílica fundida por UV, quartzo fundido (JGS1, JGS2, JGS3)
Especificaçõesunidade3 ¢4 ¢5"6"8"12"
Dimetro (ou quadrado)mm76.2100125150200300
Tol (±)mm< 0,1 a 0,25 mm
Espessura mais finamm> 010> 010> 030> 030> 030> 050
Flat primáriomm2232.542.557.5/marcaembocaduraembocadura
LTV (5mmx5mm)μm< 2< 2< 2< 2< 2< 10
TTVμm< 8< 10< 15< 20< 30< 30
Incline-se.μm± 20± 25± 40± 40± 60± 60
Warp.μm< 30< 40< 50< 50< 60< 60
PLTV ((< 0,5um)%≥ 95% ((5 mm*5 mm)
Transmisso Opço UV, Óptica, IR ou Personalizada
Arredondamento da bordammConforme com a norma SEMI M1.2/referência IEC62276
Tipo de superfície Polido de lado único/polido de lado duplo
Lado polido Ranm< 1,0 nm ou específico conforme solicitado
Critérios do lado de trásμmGeral é 0,2-0,5μm ou conforme personalizado
AparênciaContaminaçoNenhum
Partículas > 0,3 μm<= 30
Marcas de serra, estriasNenhum
EscarraparNenhum
Fissuras, marcas de serra, manchasNenhum

 

 

AtributosValores
MateriaisWafer de sílica fundida, Wafer de sílica fundida de alta pureza
Índice de refraço1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
RevestimentoAR, HR, V-Coat
Paralelo3 Sec. de Arco
Qualidade da superfície20 a 10
Segundo pisoPor pedido
AplicaçoSemicondutores, MEMS, Médicos
TransmissoIR, visível, DUV
Modelo SchottBorofloat 33, B270, D263, Zerodur, MEMpax, BK7
Impuridades metálicas< 0,2 ppm
Arco-íris< 30um

 

Aplicações:

Os substratos de vidro da BonTek so feitos de placa de silicato de cálcio, vidro de borosilicato e vidro de silicato de alumínio e so certificados pela ISO:9001. Cada wafer é embalado em uma cassete ou frasco e pode ser entregue dentro de 2 semanas após o pagamento ser feito através de TT / adiantado..25mm X 45° com uma densidade de 2,20g/cm3. Ele também tem um revestimento de AR, HR ou V-Coat e é certificado com ISO9001 e RoHS. O limiar de danos para a Wafer de Silício Fundido da BonTek é superior a 10J/cm2.A quantidade mínima de encomenda é de 5 peças.

 

Personalizaço:

Serviço personalizado de Wafer de Sílica Fundida da BonTek

BonTek é um fornecedor líder de Wafer de Sílica Fundida. Nós fornecemos serviço personalizado com base nas necessidades de nossos clientes. Nossa Wafer de Sílica Fundida pode ser usada para várias aplicações, como dispositivo optoeletrônico,Diodo emissor de luz, diodo laser, etc.

Características do produto:

  • Marca: BonTek
  • Número do modelo: Substrato de vidro
  • Local de origem: China
  • Certificaço: ISO:9001
  • Quantidade mínima de encomenda: 5 peças
  • Detalhes da embalagem: Caixa, frasco
  • Prazo de entrega: 2 semanas
  • Termos de pagamento: TT/antecipado
  • Capacidade de abastecimento: 100000/mês
  • Revestimento: AR, HR, V-Coat
  • Índice de refraço: 1.46, 1.472, 1.50, 1.51, 1.523
  • Marca: Corning, Schott, OHARA, FLH, China Glass
  • Contido de OH: < 5 ppm, < 10 ppm, < 100 ppm
  • Warp: <35um
  • Material: Sílica fundida de alta pureza, vidro de silicato de alumínio

A nossa Wafer de Silício Fundido é de alta qualidade, com baixo teor de OH, alto índice de refraço e baixa deformaço.

Se tiver alguma dúvida sobre o nosso serviço personalizado de Wafer de Sílica Fundida, no hesite em entrar em contato conosco.

 

Apoio e Serviços:

O suporte técnico e o serviço de Wafer de Sílica Fundida esto disponíveis para clientes que precisam de ajuda com seu produto.A nossa equipa técnica experiente está disponível para responder a quaisquer perguntas ou preocupações que os clientes possam terFornecemos suporte técnico para todos os nossos produtos, incluindo Fused Silica Wafer. Fornecemos assistência abrangente de soluço de problemas e ajudaremos a encontrar soluções para qualquer problema técnico.

Também fornecemos serviços de manutenço e reparo de produtos. Nossa equipe de técnicos altamente treinados pode diagnosticar e reparar qualquer produto de Wafer de Sílica Fundida de forma rápida e eficiente.Temos as mais recentes ferramentas de diagnóstico e podemos fornecer tempos rápidos para todos os reparos.

Para os clientes que precisam de assistência na utilizaço de produtos de Wafer de Sílica Fundida, oferecemos serviços de formaço abrangentes.Os nossos formadores experientes podem fornecer treinamento tanto no local como distncia para garantir que os clientes entendam como usar o seu produto corretamenteOferecemos também documentos de apoio ao produto para ajudar os clientes com o seu produto.

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Substrato de vidro de sílica fundido de 16 ± 2 mm, Wafer com relatório de inspecção 5 arc sec

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